[发明专利]基板处理装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，用于除去残留在基板上的雾的同时对基板的表面进行使其具有亲水性的处理，其特征在于，包括：

灯组件，包括紫外线灯和反射罩，所述紫外线灯将紫外线照射到通过传送装置传送的基板，所述反射罩配置在所述紫外线灯的上侧，将从所述紫外线灯照射的紫外线向所述基板反射；

气体供应排出装置，设置在所述基板的上侧，用于向所述基板的上表面供应气体并排出沿着所述基板的上表面移动的流体；以及

壳体，具有容纳空间，所述容纳空间容纳通过所述紫外线灯加热的气体，

所述气体供应排出装置包括：

供气室，设置在所述基板的上侧并在内部形成供气空间，所述灯组件配置在所述供气空间上，具有从外部向所述供气空间供应气体的供气口；以及

排气室，沿着所述基板的传送方向设置在所述供气室的一侧，在内部形成有排气空间，具有排出存在于所述排气空间上的流体的排气口，

所述供气室的一侧壁具有用于连通所述供气空间的一侧和所述排气空间的一侧的连通部，

所述基板处理装置还包括流动引导部件，所述流动引导部件配置在所述连通部上，以使通过所述紫外线灯加热的气体能够沿着所述基板的上表面移动，

所述流动引导部件包括：

流动引导部件固定部，固定在所述供气室的一侧壁；以及

流体引导部，形成为从所述流动引导部件固定部的一端朝向引入基板的方向倾斜，并且，倾斜的部位形成为圆弧形，引导所述供气空间上的流体沿着所述基板的上表面移动，除去因气流而存在于基板的雾的同时防止基板翘起的现象，

所述供气室的下部开放，使得从所述紫外线灯照射的紫外线能够向所述基板照射，所述排气室的下部具有开放的结构，所述壳体的上部具有开放的结构，使得能够和所述供气空间的下部、以及所述排气空间的下部连通，

除了引入所述基板的引入口和排出所述基板的排出口之外，所述供气空间、所述排气空间、以及所述容纳空间被密闭，在所述基板通过所述引入口之前，通过所述紫外线灯加热的气体容纳在所述容纳空间，当所述基板通过所述引入口并对所述基板进行处理时，所述基板的上表面被通过所述紫外线灯照射的紫外线和通过所述供气口供应的气体进行处理，所述基板的下表面被容纳在所述容纳空间的加热的气体进行处理，并且，所述基板的上下面同时被处理。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述气体供应排出装置还包括：

供气扇，设置在所述供气口，以从外部将气体供应到所述供气空间；

排气扇，设置在所述排气口，以将所述排气空间上的流体排出到外部；以及

支撑框架，分别设置在所述传送装置的两侧，以在所述传送装置上支撑所述供气室。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述反射罩还包括狭缝部，形成在所述反射罩的上部，以使供应到所述供气空间的气体移动到所述紫外线灯侧。

4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

还包括高度调节装置，配置在所述供气空间上，以调节所述紫外线灯的高度，

所述高度调节装置包括：

设置板，所述紫外线灯设置在所述设置板的下方，所述反射罩设置在所述设置板的上方；以及

滚珠螺杆，一端露出在所述供气室的外侧，另一端结合到所述设置板，向上下方向移动所述设置板。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

还包括引导装置，用于引导通过所述高度调节装置移动的所述设置板的移动，

所述引导装置包括：

第一引导部件和第二引导部件，一端连接到所述供气室的上部，另一端连接到所述支撑框架，以引导所述设置板的移动；

第一套管，在与所述设置板的一侧结合的状态下可移动地结合到所述第一引导部件；以及

第二套管，在与所述的设置板的另一侧结合的状态下可移动地结合到所述第二引导部件。

6.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述容纳空间的上部配置有所述传送装置的一部分，

沿着所述基板的宽度方向配置有多个所述供气口和所述排气口。

7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，还包括固定部件，用于将所述壳体的上端固定到所述支撑框架的下部。