[发明专利]粒子束治疗系统及其扩充方法

说明书

本发明提供提高了扩充性的粒子束治疗系统。粒子束治疗系统(1)具备：具有第一楼层(51)和第二楼层(53S、53V)的建筑物；设于第一楼层并产生粒子束的粒子束产生装置(2)；用于从粒子束产生装置向第一治疗室内的第一照射装置输送粒子束的第一输送系统(3(1))；以及从第一输送系统分支并用于经由第二楼层向第二治疗室的第二照射装置输送粒子束的第二输送系统(3(2))，第二输送系统具有使粒子束向与粒子束产生装置的设置面不同的第二楼层的方向偏转的第一偏转电磁铁(32(2))，建筑物(5)具有屏蔽第一楼层与第二楼层的屏蔽壁(55)，在相对于粒子束的前进方向比第一偏转电磁铁靠后方的位置贯通屏蔽壁地设置第二输送系统。

技术领域

本发明涉及粒子束治疗系统及其扩充方法。

背景技术

公知一种通过向患部照射质子、碳等的粒子束来进行治疗的粒子束治疗系统(专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2018-38628号公报

发明内容

发明所要解决的课题

专利文献1中，能够利用夜间、休息日等不进行治疗的时间完成系统的追加等的更新。但是，专利文献1中并未公开如下方法，即在向与产生粒子束的加速器的设置面不同的楼层供给粒子束的情况下在短时间内高效地扩充粒子束治疗系统的方法。

本发明的目的在于提供提高了扩充性的粒子束治疗系统及其扩充方法。

用于解决课题的方案

为了解决上述课题，基于本发明的粒子束治疗系统具备：建筑物，具有第一楼层和第二楼层；粒子束产生装置，设置于第一楼层，并产生粒子束；第一输送系统，用于从粒子束产生装置向第一治疗室内的第一照射装置输送粒子束；以及第二输送系统，从第一输送系统分支，并用于经由第二楼层向第二治疗室的第二照射装置输送粒子束，上述粒子束治疗系统的特征在于，第二输送系统具有第一偏转电磁铁，该第一偏转电磁铁使粒子束向与粒子束产生装置的设置面不同的第二楼层的方向偏转，建筑物具有屏蔽第一楼层与第二楼层的屏蔽壁，在相对于粒子束的前进方向比第一偏转电磁铁靠后方的位置以贯通屏蔽壁的方式设置第二输送系统。

发明的效果如下。

根据本发明，能够在第一偏转电磁铁的后方以贯通屏蔽壁的方式设置第二输送系统，该第二输送系统向第二治疗室的第二照射装置输送粒子束，该第一偏转电磁铁使粒子束向与粒子束产生装置的设置面不同的第二楼层的方向偏转。由此能够不受粒子束产生装置的影响地向第二治疗室侧扩充系统。

附图说明

图1是粒子束治疗系统的俯视图。

图2是图1中的箭头II-II方向的剖视图。

图3是示出在第二治疗室内从水平方向(H)、垂直方向(V)以及倾斜方向(S)照射粒子束的状况的说明图。

图4是将屏蔽壁的一部分除去后的状态下的粒子束治疗系统的俯视图。

图5是图4中的箭头V-V方向的剖视图。

图6是第二实施例的粒子束治疗系统的剖视图。

图7是将屏蔽壁的一部分除去后的状态下的粒子束治疗系统的剖视图。

图8是第三实施例的粒子束治疗系统的俯视图。

图9是图8中的箭头IX-IX方向的剖视图。

图10是将屏蔽壁的一部分除去后的状态下的粒子束治疗系统的俯视图。

图11是图10中的箭头X-X方向的剖视图。

符号的说明