[发明专利]一种具有光屏蔽功能的长效耐候树脂瓦共挤料及其制备方法在审
申请号: | 201910402774.X | 申请日: | 2019-05-15 |
公开(公告)号: | CN110079043A | 公开(公告)日: | 2019-08-02 |
发明(设计)人: | 郭洪武;李宏武;高振兴 | 申请(专利权)人: | 安徽国邦永盛高分子科技有限公司 |
主分类号: | C08L51/04 | 分类号: | C08L51/04;C08L25/12;C08K13/06;C08K9/02;C08K9/06;C08K9/04;C08K3/34;C08K3/22;C08K3/04;C08K5/00 |
代理公司: | 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙) 34119 | 代理人: | 刘勇 |
地址: | 237000 安徽省六安市金安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 改性蒙脱土 树脂瓦 共挤 一次改性蒙脱土 光屏蔽 悬浮液 甲苯 滴入 制备 预制 抗紫外老化性能 受阻胺光稳定剂 真空喷雾干燥 紫外线吸收剂 超声波分散 六偏磷酸钠 超声分散 光屏蔽剂 搅拌反应 静置分层 均相溶液 力学性能 升温搅拌 使用寿命 处理剂 抗氧剂 引发剂 色粉 水中 上层 | ||
本发明公开了一种具有光屏蔽功能的长效耐候树脂瓦共挤料,其原料包括:ASA树脂,AS树脂,改性蒙脱土,光屏蔽剂,受阻胺光稳定剂,紫外线吸收剂,抗氧剂,EBS,色粉。改性蒙脱土采用如下步骤制备:将六偏磷酸钠溶于水中形成均相溶液,再加入蒙脱土制得悬浮液;将悬浮液经超声波分散处理、静置分层后,取上层物真空喷雾干燥制得预制料;将预制料溶于甲苯中,升温并滴入处理剂搅拌反应后,制得一次改性蒙脱土;将一次改性蒙脱土溶于甲苯中,经超声分散处理后,在保护气氛下加入引发剂,再缓慢滴入单体MMA,升温搅拌反应制得改性蒙脱土。本发明制得树脂瓦共挤料的抗紫外老化性能优异,使用寿命长,且力学性能良好。
技术领域
本发明涉及新材料技术领域,尤其涉及一种具有光屏蔽功能的长效耐候树脂瓦共挤料及其制备方法。
背景技术
粘土瓦作为防水、保温、隔热的建筑材料,是我们使用较多、历史较长的建筑材料之一,但是,此种瓦需要消耗大量的粘土,而为了保护耕地、保护环境、节约能源、我国已经逐渐限制、甚至禁止使用粘土瓦。目前,越来越多的合成树脂瓦已经应用到建筑上。合成树脂瓦,是运用高新化学化工技术研制而成的新型建筑材料,合成树脂瓦具有颜色持久、质轻、自防水、坚韧、保温隔热、隔音、耐腐蚀、抗风防震、抗冰雹、抗污、绿色环保、防火、绝缘、安装方便等优点,而且造型美观立体感强,颜色极具中国元素,使得它被广泛应用于农贸市场、商场、住宅小区、新农村建设居民高档别墅、雨篷、遮阳篷、仿古建筑等各类永久建筑屋面装饰,尤其目前国内大力推广的“平改坡”工程。
合成树脂瓦一般产用优良的工程树脂,如ASA,PPMA,pmma等。其中,ASA树脂在户外条件中抗紫外老化性能较差,因此,为了提高ASA树脂的抗紫外老化性能,往往添加光稳定剂,然而,少量添加并不能有效提高ASA的抗紫外老化性能,而大量添加光稳定剂,则会明显降低材料的力学性能。
发明内容
基于背景技术存在的技术问题,本发明提出了一种具有光屏蔽功能的长效耐候树脂瓦共挤料及其制备方法,制得树脂瓦共挤料的抗紫外老化性能优异,使用寿命长,且力学性能良好。
本发明提出一种具有光屏蔽功能的长效耐候树脂瓦共挤料,其特征在于,其原料按重量份包括:ASA树脂60-80份,AS树脂10-20份,改性蒙脱土1-5份,光屏蔽剂0.5-5份,受阻胺光稳定剂0.1-0.6份,紫外线吸收剂0.1-0.4份,抗氧剂0.2-0.6份,EBS0.1-0.5份,色粉0.5-5份。
优选地,ASA树脂,熔指在4-8g/10min(220℃,10kg),拉伸强度≥50Mpa,冲击强度≥400J/m。
优选地,AS树脂,熔指在6-15g/10min(220℃,10kg),拉伸强度≥65Mpa。
优选地,改性蒙脱土采用如下步骤制备:将六偏磷酸钠溶于水中形成均相溶液,再加入蒙脱土制得悬浮液;将悬浮液经超声波分散处理、静置分层后,取上层物真空喷雾干燥制得预制料;将预制料溶于甲苯中,升温并滴入处理剂KH-570,搅拌反应4-9h,经过滤、洗涤、干燥制得一次改性蒙脱土;将一次改性蒙脱土溶于甲苯中,经超声分散处理后,在保护气氛下加入引发剂BPO,升温、搅拌,再缓慢滴入单体MMA,搅拌反应3-7h,经离心分离、洗涤、干燥制得改性蒙脱土。
优选地,均相溶液中六偏磷酸钠的质量浓度为1.2-1.6%,悬浮液中蒙脱土含量为0.3-0.6g/ml。
优选地,蒙脱土的粒径不大于0.0444mm。
优选地,预制料、甲苯、KH-570的质量比为1-2:20-30:1-2。
优选地,一次改性蒙脱土、甲苯、BPO、MMA的质量比为1-1.5:20-30:0.05-0.1:5-6。
优选地,光屏蔽剂为炭黑、纳米二氧化钛、氧化锌、锌钡中的一种或多种。
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