[发明专利]一种基于导电聚合物的柔性电极及其制备方法

权利要求书

1.一种基于导电聚合物的柔性电极，其特征是，由下至上依次由柔性薄膜基材层、导电聚合物微米结构层和导电聚合物亚波长结构层构成，所述导电聚合物微米结构层为网格结构，导电聚合物微米结构层的网格结构的尺寸为微米级尺寸，导电聚合物亚波长结构层由纳米级结构的导电聚合物组合形成；

导电聚合物微米结构层的厚度为0.5μm～500μm。

2.如权利要求1所述的柔性电极，其特征是，所述导电聚合物微米结构层呈平行四边形阵列、菱形阵列、矩形阵列、六边形阵列或圆形阵列分布在柔性薄膜基材层表面。

3.如权利要求1所述的柔性电极，其特征是，所述导电聚合物微米结构层的网格结构的截面为矩形、正梯形、倒梯形、半球形或曲面。

4.如权利要求1所述的柔性电极，其特征是，导电聚合物亚波长结构层的纳米级结构为圆柱形、圆台形、棱柱形、棱台形或锥形。

5.如权利要求1所述的柔性电极，其特征是，导电聚合物亚波长结构层呈矩形阵列、平行四边形阵列、六边形阵列或圆环形阵列分布在微米级网格结构顶部表面。

6.如权利要求1所述的柔性电极，其特征是，导电聚合物微米结构层中，网格的宽度为0.5μm～300μm，网格之间的间距为1μm～1000μm。

7.如权利要求1所述的柔性电极，其特征是，导电聚合物亚波长结构层的厚度为5nm～5000nm。

8.如权利要求1所述的柔性电极，其特征是，导电聚合物亚波长结构层中，纳米级结构直径为1nm～400nm，纳米级结构之间的间隙为1nm～1000nm。

9.一种权利要求1～8任一所述的柔性电极的制备方法，其特征是，将导电聚合物涂布在柔性薄膜基材上，通过卷对卷压印在导电聚合物上加工微米级网格结构，对成形后的微米级网格结构进行热固化处理；然后采用等离子体刻蚀工艺去除导电聚合物残留层，获得非一体化的微米级网格结构；最后采用热压印工艺在微米级网格结构顶部表面压印亚波长结构阵列，即可获得高透光率可自清洁的柔性电极。

10.如权利要求9所述的柔性电极的制备方法，其特征是，卷对卷压印过程中，柔性薄膜基材的进给速度为0.1～10m/min，压力辊挤压力为0～80kgf，且压力辊挤压力不为0。