[发明专利]一种基于PLC的智能化学反应过程控制系统

说明书

一种基于PLC的智能化学反应过程控制系统，属于化学反应过程控制系统领域。技术方案：PLC控制器分别控制水浴温度控制系统、液位控制系统、冷却温度控制系统、转速控制系统和报警系统；水浴温度控制系统通过热电偶温度传感器进行水温采集并反馈，通过PID控制器控制电阻丝从而对水温进行控制；液位控制系统通过温度传感器采集水温并反馈；通过液位传感器采集液位并反馈，通过PID控制器控制流量泵对液位进行控制；冷却温度控制系统通过温度传感器进行水温采集并反馈，通过PID控制器控制降温水泵进行降温冷却。有益效果是:本发明保证反应装置在恒温水浴锅中磁力搅拌反应，保证水浴锅中液位维持固定高度，保证气态反应物出口冷凝成液态，保证液态温度恒定。

技术领域

本发明属于化学反应过程控制系统领域，尤其涉及一种基于PLC的智能化学反应过程控制系统。

背景技术

变温水浴装置控制系统在工业生产，科学研究和人们的生活领域中得到了广泛应用。在工业生产过程中，很多时候都需要对水温进行严格的监控，以使得生产能够顺利进行，产品的质量才能够得到充分保证。使用变温水浴控制系统可以对生产中环境的温度进行有效控制，从而保证生产的顺利。变温控制系统应用十分广阔。随着社会的发展，在各个领域中科学技术的应用和测量技术的发展，智能化无疑是现代温度控制的主流。针对智能化控制温度系统的问题，PLC进行控制是一个很好的解决办法，它具有使用灵活，通用性强，可靠性高，抗干扰能力强，接口简单，体积小，功耗小等优点，是一种实用的控制系统。特别近年来，温度控制系统已经进入各个方面，水是一种重要的资源，而对水温进行精度控制，可以提高生产效率，节约资源，提高我们的生活质量，这种能够对水温进行控制的系统对我们社会的可持续发展，都具有十分重要的意义。

发明内容

为了获得一个恒定的化学反应环境，本发明提出一种基于PLC的智能化学反应过程控制系统，该系统保证反应装置在恒温水浴锅中磁力搅拌反应，保证水浴锅中液位维持固定高度，保证气态反应物出口冷凝成液态，保证液态温度恒定。

技术方案如下：

一种基于PLC的智能化学反应环境控制系统，其特征在于，包括：PLC控制器、水浴温度控制系统、液位控制系统、冷却温度控制系统、转速控制系统、报警系统；

所述PLC控制器分别控制所述水浴温度控制系统、液位控制系统、冷却温度控制系统、转速控制系统和报警系统；

所述水浴温度控制系统通过热电偶温度传感器进行水温采集并反馈，通过PID控制器控制电阻丝从而对水温进行控制；

所述液位控制系统通过温度传感器采集水温并反馈；通过液位传感器采集液位并反馈，通过PID控制器控制流量泵对液位进行控制；

所述冷却温度控制系统通过温度传感器进行水温采集并反馈，通过PID控制器控制降温水泵进行降温冷却；

所述转速控制系统中：采用霍尔接近开关检测磁棒转速，每转一圈，霍尔接近开关产生一个脉冲信号，单片机将磁棒实际转速与设定转速进行比较，通过PID控制，使磁棒转速稳定在设定值；

所述报警系统采用水流传感器进行采集并反馈，当系统停水，或水流减少时，断开反应温度控制电源，停止反应并进行故障报警。

进一步的，所述PLC控制器采用西门子双串口S7-300PLC。

进一步的，水流传感器采用USM-FS21TA、USM-FS21TB、USM-FS41TB、USM-FS41TA、USM-FS43TA、USM-FS83TA、USM-FS08PA、USM-FS10PA中的任意一种。

进一步的，所述液位传感器采用双浮球液位传感器。