[发明专利]一种基于材料场缩减级数展开的结构拓扑优化方法有效
申请号: | 201910341472.6 | 申请日: | 2019-04-26 |
公开(公告)号: | CN110110413B | 公开(公告)日: | 2022-11-18 |
发明(设计)人: | 罗阳军;亢战;刘湃 | 申请(专利权)人: | 大连理工大学 |
主分类号: | G06F30/23 | 分类号: | G06F30/23;G06F30/17;G06F30/27;G06F111/04 |
代理公司: | 大连理工大学专利中心 21200 | 代理人: | 李晓亮;潘迅 |
地址: | 116024 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 基于 材料 缩减 级数 展开 结构 拓扑 优化 方法 | ||
1.一种基于材料场缩减级数展开的结构拓扑优化方法,其特征在于,该结构拓扑优化方法主要包括材料场缩减级数展开和结构拓扑优化建模两部分,步骤如下:
第一步,对设计域材料场进行离散化和缩减级数展开
1.1)根据结构的实际情况和尺寸要求确定二维或三维设计域,定义具有空间相关性的有界材料场函数,在设计域中均匀选取若干观察点对材料场进行离散化;所述的观察点个数控制在10,000个以内;所述的材料场函数界限为[-1,1],材料场任意两点之间的相关性采用依赖于两点空间距离的相关函数进行定义,即C(x1,x2)=exp(-||x1-x2||2/lc2);其中,x1和x2为两点空间位置,lc为相关长度,|| ||为2-norm范数;
1.2)确定相关长度,计算所有观察点之间的相关性,构造对角线为1的对称正定相关矩阵;所述的相关长度不大于设计域长边尺寸的25%;
1.3)对步骤1.2)中的对称正定相关矩阵进行特征值分解,将特征值从大到小排序,依照截断准则选取前几阶特征值;所述的截断准则为:选取的特征值之和占所有特征值总和的99.9999%;
1.4)对材料场进行缩减级数展开,即其中,η为待定的级数展开系数,Λ为1.3)中选取的特征值组成的对角矩阵,ψ为相应的特征向量,C(x)为步骤1.1)中相关函数得到的相关向量;
第二步,对结构进行拓扑优化
2.1)首先,对设计域划分有限元单元网格,建立有限元单元弹性模量与材料场的幂函数插值关系;其次,在设计域中施加荷载和约束边界,进行有限元分析;最后建立结构拓扑优化模型,优化目标为使结构的整体刚度最大化或者整体柔顺性最小化,约束条件和设计变量如下:
a)约束条件一:要求每个观察点的材料场函数值不超过1;
b)约束条件二:确定结构材料用量,作为材料体积约束上限;所述的材料用量为设计域体积的5%-50%;
c)设计变量:材料场的缩减级数展开系数η,η取值为-100和100之间;
2.2)根据步骤2.1)建立的结构拓扑优化模型,对优化目标和约束条件进行灵敏度分析;利用梯度类优化算法或者非梯度类优化算法进行迭代求解,在迭代过程中采用紧约束处理策略,仅将当前观察点材料场函数值大于-0.3的约束条件计入算法中,得到结构最优材料分布。
2.根据权利要求1所述的一种基于材料场缩减级数展开的结构拓扑优化方法,其特征在于,步骤1.1)所述的相关函数包括指数模型函数和高斯模型函数。
3.根据权利要求1或2所述的一种基于材料场缩减级数展开的结构拓扑优化方法,其特征在于,步骤2.1)所述的单元弹性模量幂函数插值关系表达式为其中,为的Heaviside映射函数,光滑参数从0到9阶梯性增加,即满足收敛条件后每次增加1.5;收敛条件为相临迭代步目标值相对差小于0.005;P为惩罚因子;E0为所述材料的弹性模量。
4.根据权利要求1或2所述的一种基于材料场缩减级数展开的结构拓扑优化方法,其特征在于,步骤2.1)所述的梯度类优化算法为准则法或MMA算法,非梯度类优化算法为代理模型方法或遗传算法。
5.根据权利要求3所述的一种基于材料场缩减级数展开的结构拓扑优化方法,其特征在于,步骤2.1)所述的梯度类优化算法为准则法或MMA算法,非梯度类优化算法为代理模型方法或遗传算法。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连理工大学,未经大连理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201910341472.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。