[发明专利]层叠体有效

专利信息
申请号: 201910337734.1 申请日: 2019-04-24
公开(公告)号: CN110467884B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 朴一雨;沈载镐 申请(专利权)人: 住友化学株式会社
主分类号: C09J7/20 分类号: C09J7/20
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 杨宏军;唐峥
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 层叠
【说明书】:

本发明涉及层叠体。本发明提供即使在层叠体的端部承受来自外部的冲击的情况下、也不易在粘合剂层与剥离膜层之间发生密合力的下降及层叠体面内的光学膜层区域的污染的可弯曲层叠体。层叠体,其是依次层叠第1膜层、光学膜层、粘合剂层、和第2膜层而成的可弯曲层叠体,其中,第1膜层及第2膜层的端部的全部位置均与粘合剂层的端部的位置相同或者比粘合剂层的端部的位置更靠外侧,粘合剂层的端部的至少一部分的位置比光学膜层的端部的位置更靠外侧。

技术领域

本发明涉及层叠体。

背景技术

已提出了一种粘合型光学膜,其是在光学膜的一面或两面设置有粘合剂层的粘合型光学膜,其中,粘合剂层具有位于比光学膜的端边更靠内侧的位置的部分(专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2004-170907号公报

发明内容

发明所要解决的课题

对于上述粘合型光学膜而言,在端部承受来自外部的冲击的情况下,有时在粘合剂层与剥离膜层之间发生由粘合剂层的缺损导致的密合力的下降、由异物附着导致的层叠体面内的光学膜层区域的污染。

本发明的目的在于提供即使在层叠体的端部承受来自外部的冲击的情况下、也不易在粘合剂层与剥离膜层之间发生密合力的下降及层叠体面内的光学膜层区域的污染的可弯曲层叠体。

用于解决课题的手段

本发明提供如下所示的层叠体。

[1]层叠体,其是依次层叠第1膜层、光学膜层、粘合剂层、和第2膜层而成的可弯曲层叠体,其中,

前述粘合剂层的端部的位置的至少一部分比前述光学膜层的端部的位置更靠外侧。

[2]如[1]所述的层叠体,其中,前述粘合剂层的端部的全部位置均比前述光学膜层的端部的位置更靠外侧。

[3]如[2]所述的层叠体,其中,前述粘合剂层在从前述光学膜层的端部的位置向外侧离开0.4mm以上的部位与前述第1膜层接触。

[4]如[1]或[2]所述的层叠体,其中,前述第1膜层及前述第2膜层的端部的全部位置均与前述粘合剂层的端部的位置相同或者比前述粘合剂层的端部的位置更靠外侧。

[5]如[4]所述的层叠体,其中,前述第1膜层及/或前述第2膜层的端部的位置的至少一部分比前述粘合剂层的端部的位置更靠外侧。

[6]如[1]~[3]中任一项所述的层叠体,其中,前述光学膜层包含基材膜、和被配置在其一个面上的涂覆层。

发明的效果

通过本发明,可提供即使在层叠体的端部承受来自外部的冲击的情况下、也不易在粘合剂层与剥离膜层之间发生密合力的下降及层叠体面内的光学膜层区域的污染的可弯曲层叠体。

附图说明

[图1]为表示基于本发明的第一实施方式的层叠体的概略截面图。

[图2]为表示基于本发明的第二实施方式的层叠体的概略截面图。

[图3]为表示基于本发明的第三实施方式的层叠体的概略截面图。

[图4]为表示基于本发明的第四实施方式的层叠体的概略截面图。

[图5]为示意性地表示本发明的层叠体的制造方法的层叠体的概略截面图。

[图6]为示意性地表示实施例中使用的试验片的制作方法的概略截面图。

[图7]为示意性地表示实施例中的评价试验的方法的图。

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