[发明专利]一种用于瓷砖生产设备的施釉装置有效

专利信息
申请号: 201910333779.1 申请日: 2019-04-24
公开(公告)号: CN109940746B 公开(公告)日: 2021-04-06
发明(设计)人: 陈前;胡国平;沈万康 申请(专利权)人: 江西斯米克陶瓷有限公司;上海悦心健康集团股份有限公司
主分类号: B28B11/04 分类号: B28B11/04
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 331100 江西省*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 瓷砖 生产 设备 装置
【说明书】:

一种用于瓷砖生产设备的施釉装置,包括喷枪,喷枪具有喷嘴,喷嘴包括第一本体(1)、第二本体(2)、连接元件(3)、流体通道(4)、混合振荡腔(5)、出口部(6)、螺旋转子(7)、气体通道,流体通道、混合振荡腔、出口部沿流体流向依次设置,其特征在于:混合振荡腔(5)内设有螺旋转子(7),螺旋转子包括螺旋叶片(71)、转轴,螺旋叶片设置于转轴外周,转轴的两端通过轴承(72)与导流架(10)连接,两个导流架分别位于第一本体、第二本体上。通过螺旋转子与进气孔的设计,釉液/液体在混合振荡腔内雾化为更微小的雾化喷雾,雾化精细化程度高、雾化均匀、稳定,从而提高喷釉良品率、原料利用率。

技术领域

发明涉及陶瓷、瓷砖制造工艺技术领域,具体为一种用于陶瓷、瓷砖生产设备的施釉装置。

背景技术

喷釉是现代陶瓷、瓷砖施釉技术手段之一,常用喷枪或喷雾器使釉液/釉浆雾化喷到坯体表面,该施釉方式适合大规模、复杂化的生产。但现有的喷涂装置存在雾化不均匀、不稳定、原料利用率低、喷釉良品率低的问题。

发明内容

本发明的目的是克服现有技术中存在的不足,提供一种用于瓷砖生产设备的施釉装置,解决了喷涂装置存在雾化不均匀、不稳定、原料利用率低、喷釉良品率低的问题。

该一种用于瓷砖生产设备的施釉装置,通过螺旋转子与进气孔的设计,釉液/液体在混合振荡腔内雾化为更微小的雾化喷雾,雾化精细化程度高、雾化均匀、稳定,从而提高喷釉良品率、原料利用率。

为了实现上述目的,本发明采用的技术方案为 :

一种用于瓷砖生产设备的施釉装置/喷雾装置,包括喷枪、料源、气源,喷枪通过供给管线与料源、气源连接,喷枪具有喷嘴,喷嘴包括第一本体(1)、第二本体(2)、连接元件(3)、流体通道(4)、混合振荡腔(5)、出口部(6)、螺旋转子(7)、气体通道,第一本体与第二本体通过定位件定位并通过连接元件连接固定,流体通道、混合振荡腔、出口部沿流体流向依次设置,其特征在于:混合振荡腔(5)内设有螺旋转子(7),螺旋转子包括螺旋叶片(71)、转轴,螺旋叶片设置于转轴外周,转轴的两端通过轴承(72)与导流架(10)连接,两个导流架分别位于第一本体、第二本体上。

进一步地,所述流体通道依次包括第一直径段(41)、第一锥形段(42)、第二直径段(43)。

进一步地,所述出口部依次包括第二锥形段(61)、第三直径段(62)、第三锥形段(63),气体通道位于混合振荡腔径向外周。

进一步地,所述螺旋叶片的螺距(P)不等,且沿流体流动方向依次减小。

进一步地,所述气体通道通过多个进气孔(8)与混合振荡腔连通,进气孔相对于喷嘴中心轴线倾斜设置。

进一步地,所述出口部的径向外周的气体通道部分为倾斜段,该倾斜段内设有多个旋流片(9),旋流片与径向之间具有一锐角夹角。

进一步地,所述导流架包括多个导流部,该导流部与导流部之间形成流通通道,导流部的前端与后端都形成流线型导流部(11)。

进一步地,所述喷嘴的出口端面与旋流片(9)的出口端面之间具有轴向距离X2,喷嘴的出口端面与出口部的第三锥形段(63)的出口端面之间具有轴向距离X1,X1≠X2。

进一步地,所述X1X2,且X1=(0.35-0.65)X2。

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