[发明专利]检测装置和硅片分选设备

权利要求书

1.一种检测装置，其特征在于，所述检测装置包括用于输送待测物体的输送机构和两组检测机构，第一组检测机构被配置为检测待测物体的第一边缘和上表面，第二组检测机构被配置为检测待测物体的第二边缘和下表面，每组检测机构均包括检测相机、反射机构和激光发射器，所述反射机构对所述激光发射器发射的激光进行至少一次反射，以使激光经过所述待测物体的被检测边缘反射后被对应的检测相机探测到，所述第一边缘和所述第二边缘为所述待测物体上相对的且与所述输送机构的输送方向垂直的两条边缘。

2.如权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述第一组检测机构的检测相机位于所述输送机构的上方，所述第二组检测机构的检测相机位于所述输送机构的下方；

所述第一组检测机构的激光发射器位于所述输送机构的上方或下方，所述第二组检测机构的激光发射器位于所述输送机构的上方或下方。

3.如权利要求2所述的检测装置，其特征在于，所述第一组检测机构的检测相机和激光发射器以及所述第二组检测机构的激光发射器和检测相机按照所述输送机构的输送方向前后依序设置，所述第一边缘为所述待测物体的前端边缘，所述第二边缘为所述待测物体的后端边缘，所述输送机构将所述待测物体从后向前输送。

4.如权利要求3所述的检测装置，其特征在于，所述待测物体输送至所述第二组检测机构的检测相机的正上方时，所述第二组检测机构检测待测物体的下表面；所述待测物体输送至第一检测位时，所述第二组检测机构检测所述待测物体的后端边缘；所述待测物体输送至第二检测位时，所述第一组检测机构检测所述待测物体的前端边缘；所述待测物体输送至所述第一组检测机构的检测相机的正下方时，所述第一组检测机构检测待测物体的上表面；所述第一检测位和所述第二检测位在所述输送机构上的位置相同或者不同。

5.如权利要求2所述的检测装置，其特征在于，所述第二组检测机构的检测相机和激光发射器以及所述第一组检测机构的激光发射器和检测相机按照所述输送机构的输送方向前后依序设置，所述第一边缘为所述待测物体的后端边缘，所述第二边缘为所述待测物体的前端边缘，所述输送机构将所述待测物体从后向前输送。

6.如权利要求5所述的检测装置，其特征在于，所述待测物体输送至所述第一组检测机构的检测相机的正下方时，所述第一组检测机构检测待测物体的上表面；所述待测物体输送至第三检测位时，所述第一组检测机构检测所述待测物体的后端边缘；所述待测物体输送至第四检测位时，所述第二组检测机构检测所述待测物体的前端边缘；所述待测物体输送至所述第二组检测机构的检测相机的正上方时，所述第二组检测机构检测待测物体的下表面；所述第三检测位和所述第四检测位在所述输送机构上的位置相同或者不同。

7.如权利要求1所述的检测装置，其特征在于，每组检测机构的反射机构均包括入射反光镜和由至少一个出射反光镜组成的出射反光镜组。

8.如权利要求7所述的检测装置，其特征在于，

对于每组检测机构，所述检测机构中的激光发射器发射激光至所述检测机构对应的被检测边缘，所述入射反光镜接收所述被检测边缘反射的激光，并将所述激光反射至所述出射反光镜组，由所述出射反光镜组将所述激光反射至所述检测机构中的检测相机；

对于每组检测机构，所述入射反光镜接收所述检测机构中的激光发射器发射的激光，将所述激光反射至所述检测机构对应的被检测边缘，所述被检测边缘将所述激光反射至所述出射反光镜组，由所述出射反光镜组将所述激光反射至所述检测机构中的检测相机。

9.如权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述输送机构包括输送带和驱动所述输送带输送的驱动部，所述输送机构上设置有供激光穿过的透射孔。

10.如权利要求1所述的检测装置，其特征在于，所述待测物体为硅片。

11.一种硅片分选设备，其特征在于，所述硅片分选设备包括如权利要求1-10任一所述的检测装置，所述待测物体为硅片。