[发明专利]表面处理液及光学膜

说明书

本发明公开一种表面处理液及光学膜。表面处理液包括溶剂及表面处理剂。表面处理剂为具有有机阳离子并且熔点为25℃以上且50℃以下的离子性化合物。本发明能改善光学卷膜的成分沾附在裁切刀具的问题。

技术领域

本发明涉及一种表面处理液及光学膜，且特别是有关于一种具有离子性化合物的表面处理液及光学膜。

背景技术

在裁切光学卷膜时，光学卷膜的成分会沾附在裁切刀具上。此些沾附成分在下次裁切时会残留在光学卷膜的裁切面，而对裁切面造成污染。因此，亟需提出一种能改善光学卷膜的成分沾附在裁切刀具的技术。

发明内容

因此，本发明提出一种表面处理液及光学膜，可改善现有问题。

本发明一实施例提出一种表面处理液。表面处理液包括溶剂及表面处理剂。表面处理剂为具有有机阳离子并且熔点为25℃以上且50℃以下的离子性化合物。

其中，该溶剂包含酒精及水。

其中，该酒精与水的比例介于1：1～3：7。

其中，该表面处理剂为抗静电剂。

其中，该表面处理剂的重量百分比为该溶剂的0.1～5％。

其中，该有机阳离子包含咪唑鎓阳离子、吡啶鎓阳离子、铵阳离子、锍阳离子与鏻阳离子至少一者。

其中，由该吡啶鎓阳离子所组成的吡啶鎓盐的结构式如下：

其中，R₃表示具有12-16个碳原子的直链烷基，R₄表示氢原子或甲基，X^-表示具有氟原子的离子；X^-在吡啶鎓盐中是氟离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子、三氟乙酸根离子、三氟甲磺酸根离子、双(氟磺酰基)亚胺离子、双(三氟甲磺酰基)酰亚胺离子、三(三氟甲磺酰基)甲烷离子、六氟砷酸根离子、六氟銻酸根离子、六氟鈮酸盐离子、六氟鉭酸盐离子、(聚)氢氟氟离子、全氟丁烷磺酸盐离子、双(五氟乙磺酰基)酰亚胺离子、全氟丁酸离子或(三氟甲磺酰基)(三氟甲烷羰基)酰亚胺离子。

本发明另一实施例提出一种光学膜。光学膜包括一膜体及一前述表面处理液。表面处理液形成于膜体的表面。

其中，该表面为该膜体的上表面、下表面或侧面。

其中，该表面为该膜体的最外侧表面。

其中，该光学膜为一光学卷膜或一裁切后光学膜片。

为了对本发明的上述及其它方面有更佳的了解，以下结合附图和具体实施例对本发明进行详细描述，但不作为对本发明的限定。

附图说明

图1～图2绘示依照本发明一实施例的裁切设备的示意图。

图3绘示图1的裁切刀具切断光学卷膜的示意图。

图4绘示依照本发明另一实施例的裁切刀具的剖视图。

图5绘示依据本发明一实施例的光学膜片的裁切面附着有表面处理液的示意图。

其中，附图标记：

10：光学卷膜

10’：成分

10a：光学膜片

10b：下表面

10s：裁切面

10u：上表面

11：第一保护层

12：第一覆盖层

13：偏光层