[发明专利]表面处理液及光学膜在审

专利信息
申请号: 201910299165.6 申请日: 2019-04-15
公开(公告)号: CN110471134A 公开(公告)日: 2019-11-19
发明(设计)人: 能木直安;刘君伟;李胜仪;林如伦;杨以权 申请(专利权)人: 住华科技股份有限公司
主分类号: G02B1/12 分类号: G02B1/12;G02B1/16;G02B1/18
代理公司: 11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 梁挥;王馨仪<国际申请>=<国际公布>=
地址: 中国台湾台南*** 国省代码: 中国台湾;TW
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摘要:
搜索关键词: 表面处理剂 表面处理液 熔点 离子性化合物 有机阳离子 裁切刀具 光学膜 溶剂 卷膜 沾附
【权利要求书】:

1.一种表面处理液,其特征在于,包括:

溶剂;以及

表面处理剂,为具有有机阳离子并且熔点为25℃以上且50℃以下的离子性化合物。

2.根据权利要求1所述的表面处理液,其特征在于,该溶剂包含酒精及水。

3.根据权利要求2所述的表面处理液,其特征在于,该酒精与水的比例介于1:1~3:7。

4.根据权利要求1所述的表面处理液,其特征在于,该表面处理剂为抗静电剂。

5.根据权利要求1所述的表面处理液,其特征在于,该表面处理剂的重量百分比为该溶剂的0.1~5%。

6.根据权利要求1所述的表面处理液,其特征在于,该有机阳离子包含咪唑鎓阳离子、吡啶鎓阳离子、铵阳离子、锍阳离子与鏻阳离子至少一者。

7.根据权利要求6所述的表面处理液,其特征在于,由该吡啶鎓阳离子所组成的吡啶鎓盐的结构式如下:

其中,R3表示具有12-16个碳原子的直链烷基,R4表示氢原子或甲基,X-表示具有氟原子的离子;X-在吡啶鎓盐中是氟离子、四氟硼酸根离子、六氟磷酸根离子、三氟乙酸根离子、三氟甲磺酸根离子、双(氟磺酰基)亚胺离子、双(三氟甲磺酰基)酰亚胺离子、三(三氟甲磺酰基)甲烷离子、六氟砷酸根离子、六氟銻酸根离子、六氟鈮酸盐离子、六氟鉭酸盐离子、(聚)氢氟氟离子、全氟丁烷磺酸盐离子、双(五氟乙磺酰基)酰亚胺离子、全氟丁酸离子或(三氟甲磺酰基)(三氟甲烷羰基)酰亚胺离子。

8.一种光学膜,其特征在于,包括:

膜体,具有一表面;以及

权利要求1~7的任一项所述的表面处理液,形成于该膜体的该表面。

9.根据权利要求8所述的光学膜,其特征在于,该表面为该膜体的上表面、下表面或侧面。

10.根据权利要求8所述的光学膜,其特征在于,该表面为该膜体的最外侧表面。

11.根据权利要求8所述的光学膜,其特征在于,该光学膜为一光学卷膜或一裁切后光学膜片。

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