[发明专利]可挠动的均温板

权利要求书

1.一种可挠动的均温板，应用于一电子装置上，其特征在于，该均温板包括：

一上盖，以一第一可挠性材料制成；

一下盖，以一第二可挠性材料制成，该上盖设置于该下盖上；

一腔室，形成于该上盖与该下盖之间；

一毛细结构，设置于该下盖上并位于该腔室中；

多个支撑单元，设置于该上盖上并位于该腔室中，且该多个支撑单元抵接于该毛细结构；以及

一工作流体，容置于该腔室中；

其中，该均温板能在一可挠动范围内挠动，而能相应该电子装置的形状进行设置。

2.如权利要求1所述的可挠动的均温板，其特征在于，于该上盖的一第一外侧表面上形成有多个凹槽，该多个凹槽的两端呈现贯穿，且该多个凹槽于该上盖被挠动时能产生收缩，以分散该第一外侧表面因挠动所产生的形变。

3.如权利要求1所述的可挠动的均温板，其特征在于，于该下盖的一第二外侧表面上形成有多个凹槽，该多个凹槽的两端呈现贯穿，且该多个凹槽于该下盖被挠动时能产生收缩，以分散该第二外侧表面因挠动所产生的形变。

4.如权利要求1所述的可挠动的均温板，其特征在于，该第一可挠性材料与该第二可挠性材料为铜、铜合金或铝合金，且该第一可挠性材料与该第二可挠性材料为相同或不同。

5.如权利要求1所述的可挠动的均温板，其特征在于，该均温板具有一板体厚度，该板体厚度不超过一预设厚度范围。

6.如权利要求1所述的可挠动的均温板，其特征在于，该均温板还包括：

一上薄膜，设置于该上盖的上方；以及

一下薄膜，设置于该下盖的下方；

其中，该上薄膜的边缘与该下薄膜的边缘形成结合，并将该上盖与该下盖包覆于其中。

7.如权利要求6所述的可挠动的均温板，其特征在于，该上薄膜与该下薄膜为具有可挠性的聚合物材料所制成，且该上薄膜的材料与该下薄膜的材料为相同或不同。

8.如权利要求6所述的可挠动的均温板，其特征在于，该下薄膜具有一开口，而该下盖经由该开口呈现露出，该开口对应于该电子装置的一热源，以供该下盖对该热源形成接触。

9.如权利要求1所述的可挠动的均温板，其特征在于，该多个支撑单元以一平均分布方式或一不规则分布方式形成于该上盖的一第一内侧表面上。

10.如权利要求1所述的可挠动的均温板，其特征在于，该多个支撑单元的材料为铜、铜合金或铝合金，而该上盖与该多个支撑单元为一体成型，或为不同元件分别制成后加以结合。

11.如权利要求1所述的可挠动的均温板，其特征在于，该多个支撑单元为圆柱形、方柱形或长条形，且该多个支撑单元的高度大于该毛细结构的厚度。

12.如权利要求1所述的可挠动的均温板，其特征在于，该毛细结构为一铜网，或以一金属的粉末以烧结或冶金方式形成于该下盖的一第二内侧表面上。

13.如权利要求1所述的可挠动的均温板，其特征在于，该均温板还包括一另一毛细结构，该另一毛细结构设置于该上盖上并位于该多个支撑单元之间和该腔室中。

14.一种可挠动的均温板，应用于一电子装置上，其特征在于，该均温板包括：

一上盖，以一第一可挠性材料制成；

一下盖，以一第二可挠性材料制成，该上盖设置于该下盖上；

一腔室，形成于该上盖与该下盖之间；

一毛细结构，设置于该下盖上并位于该腔室中，该毛细结构具有多个凸出部，且该多个凸出部抵接于该上盖；以及

一工作流体，容置于该腔室中；

其中，该均温板能在一可挠动范围内挠动，而能相应该电子装置的形状进行设置。