[发明专利]用于形成自适应层的装置及其使用方法

权利要求书

1.一种装置，其特征在于，包括逻辑元件，所述逻辑元件被配置为至少部分地基于与第一衬底卡盘和第二衬底卡盘相关联的平坦度分布的差异来生成与要在当前衬底上方形成的自适应层相对应的信息。

2.根据权利要求1所述的装置，其中，平坦度分布的差异至少部分地基于先前的衬底上方的第一图案化层和第二图案化层之间的原始重叠误差，其中，使用第一衬底卡盘对第一图案化层进行图案化，并且使用第二衬底卡盘对第二图案化层进行图案化。

3.根据权利要求2所述的装置，其中，所述逻辑元件还被配置为去除对应于第一图案化层和第二图案化层之间的未对准的对准贡献。

4.根据权利要求2所述的装置，其中，所述逻辑元件还被配置为去除压印失真贡献，压印失真贡献对应于与用于形成第一图案化层的第一压印模板、用于形成第二图案化层的第二压印模板、或者第一压印模板和第二压印模板相关联的压印失真。

5.根据权利要求2所述的装置，其中，所述逻辑元件还被配置为去除平均场标签，并且其中，所述逻辑元件还被配置为去除与第一衬底卡盘和第二衬底卡盘相关联的平坦度引起的失真贡献。

6.根据权利要求1所述的装置，其中，所述逻辑元件还被配置为：

测量先前的衬底上方的第一图案化层和第二图案化层之间的原始重叠误差，其中，使用第一衬底卡盘对第一图案化层进行图案化，并且使用第二衬底卡盘对第二图案化层进行图案化；

去除对准贡献，对准贡献对应于第一图案化层和第二图案化层之间的未对准；

去除压印失真贡献，压印失真贡献对应于与用于形成第一图案化层的第一压印模板、用于形成第二图案化层的第二压印模板、或者第一压印模板和第二压印模板相关联的压印失真；

去除与第二衬底卡盘相关联的平坦度引起的失真贡献；以及

去除平均场标签。

7.根据权利要求1所述的装置，其中，对应于自适应层的信息包括与自适应层相关联的流体液滴图案。

8.一种方法，其特征在于，包括：

确定与第一衬底卡盘和第二衬底卡盘相关联的平坦度分布的差异；以及

在当前衬底上方形成自适应层，其中，自适应层具有厚度分布，所述厚度分布是所述平坦度分布的差异的倒数的函数。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，确定平坦度分布的差异包括测量先前的衬底上方的第一图案化层和第二图案化层之间的原始重叠误差，其中，使用第一衬底卡盘对第一图案化层进行图案化，并且使用第二衬底卡盘对第二图案化层进行图案化。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，确定平坦度分布的差异还包括去除对应于第一图案化层和第二图案化层之间的未对准的对准贡献。

11.根据权利要求9所述的方法，其中，确定平坦度分布的差异还包括去除压印失真贡献，压印失真贡献对应于与用于形成第一图案化层的第一压印模板、用于形成第二图案化层的第二压印模板、或者第一压印模板和第二压印模板相关联的压印失真。

12.根据权利要求9所述的方法，其中，确定平坦度分布的差异还包括：

去除平均场标签；以及

确定与用于形成第一图案化层的第一压印模板、用于形成第二图案化层的第二压印模板、或者第一压印模板和第二压印模板相关联的平均场标签。

13.根据权利要求9所述的方法，其中，确定平坦度分布的差异还包括：

去除与第一衬底卡盘和第二衬底卡盘相关联的平坦度引起的失真贡献；以及

估计由于第一衬底卡盘和第二衬底卡盘的平坦度分布的差异引起的失真，其中所估计的失真对应于平坦度引起的失真贡献。