[发明专利]一种气浮垫结构

权利要求书

1.一种气浮垫结构，其特征在于，包括气浮垫本体，所述气浮垫本体包括出气面、与所述出气面对应的非出气面以及连接所述出气面和所述非出气面的多个侧面；

至少一个所述侧面设置有气体入口；

所述出气面设置有多个第一出气单元；所述第一出气单元至少包括第一节流孔、第一均压槽、第一凸台和第二均压槽；

所述第一均压槽环绕所述第一节流孔设置；

所述第一凸台环绕所述第一均压槽设置；

所述第二均压槽环绕所述第一凸台设置。

2.根据权利要求1所述的气浮垫结构，其特征在于，所述第一凸台远离所述非出气面一侧的表面与所述第一凸台的侧面之间的夹角为α，其中90°＜α＜180°。

3.根据权利要求1所述的气浮垫结构，其特征在于，所述第一凸台远离所述非出气面一侧的表面与所述第一凸台的侧面之间的夹角为圆弧角。

4.根据权利要求1所述的气浮垫结构，其特征在于，所述第一出气单元还包括至少一个第二凸台和至少一个第三均压槽；

所述第二凸台环绕所述第二均压槽设置；

所述第三均压槽环绕所述第二凸台设置。

5.根据权利要求1所述的气浮垫结构，其特征在于，所述出气面还设置有多个第二出气单元，所述第二出气单元包括第二节流孔。

6.根据权利要求1所述的气浮垫结构，其特征在于，所述出气面还设置有多个第四均压槽。

7.根据权利要求1所述的气浮垫结构，其特征在于，沿垂直所述出气面的方向，所述第一均压槽的深度为H1，所述第一凸台的高度为H2，所述第二均压槽的深度为H3，其中，H2≤H1，H2≤H3。

8.根据权利要求7所述的气浮垫结构，其特征在于，0.01mm≤H1≤0.05mm；0.01mm≤H3≤0.05mm；

所述第一凸台远离所述非出气面一侧的表面与所述出气面之间的距离为s，其中0mm≤s≤0.02mm。

9.根据权利要求1所述的气浮垫结构，其特征在于，沿所述第一均压槽指向所述第二均压槽的方向，所述第一节流孔的尺寸为d，所述第一均压槽的尺寸为D1，所述第一凸台的尺寸为D2，所述第二均压槽的尺寸为D3；其中，0.05mm≤d≤0.3mm；1mm≤D3≤6mm；d＜D1＜D2＜D3。

10.根据权利要求1所述的气浮垫结构，其特征在于，所述第一均压槽的形状包括圆形、椭圆形、矩形或者圆角矩形；

所述第一凸台的形状包括圆形、椭圆形、矩形或者圆角矩形；

所述第二均压槽的形状包括圆形、椭圆形、矩形或者圆角矩形。