[发明专利]一种掩模设计图案的优化方法、系统及其电子装置

权利要求书

1.一种掩模设计图案的优化方法，其特征在于：提供一基础图案，所述掩模设计图案的优化方法包括如下步骤：

步骤S1：将基础图案进行网格化分片处理，得到多个分片图案；构造目标函数，将分片图案和目标函数输入数值优化器中，基于每个分片图案的像素为变量进行像素掩模优化得到对应的像素掩模图案；

步骤S 2：基于分片像素掩模图案提取多边形掩模，对所述多边形掩模进行预处理得到处理结果，并对处理结果进行仿真验证后输出仿真验证结果；

步骤S 3：基于仿真验证结果，执行多边形掩模优化的占位操作或执行多边形掩模的实际优化操作，并输出对应的操作结果；及

步骤S 4：汇总操作结果以作为优化后的掩模设计图案。

2.根据权利要求1所述的掩模设计图案的优化方法，其特征在于：所述优化器采用牛顿迭代法或共轭梯度迭代法中一种或两种组合的数值优化方法。

3.根据权利要求1所述的掩模设计图案的优化方法，其特征在于：上述步骤S 2进一步包括：

步骤S 21：基于像素掩模图案做二值化处理后提取多边形掩模，所述多边形掩模包括主要图形和辅助图形；

步骤S 22：对辅助图形做初步处理；

步骤S 23：固定经初步处理后的辅助图形，对主要图形进行光学邻近修正处理，输出处理后的多边形掩模；及

步骤S 24：对处理后的多边形掩模进行仿真验证后输出验证结果。

4.根据权利要求1所述的掩模设计图案的优化方法，其特征在于：上述步骤S 3进一步包括：

步骤S 31：获取仿真验证结果；

步骤S 32：判断所述仿真验证结果是否满足预期光刻表现要求，若是，则执行步骤S33；若否，则执行步骤S 34；

步骤S 33：发送S KIP信号执行多边形掩模优化的占位操作，并输出对应的操作结果；及

步骤S 34：则执行多边形掩模的实际优化操作，并输出对应的操作结果。

5.根据权利要求4所述的掩模设计图案的优化方法，其特征在于：所述多边形掩模优化实际操作具体包括：将所述多边形掩模和目标函数输入数值优化器中，以多边形掩模中各多边形的几何边为变量进行多边形掩模优化，并输出多边形掩模优化操作结果。

6.一种掩模设计图案的优化系统，运用如权利要求1-5中任一项所述的掩模设计图案的优化方法优化掩膜设计图案，其特征在于：包括：

像素掩模图案生成模块：配置用于将基础图案进行网格化分片处理，得到多个分片图案；构造目标函数，将分片图案和目标函数输入数值优化器中，基于每个分片图案的像素为变量进行像素掩模优化得到对应的像素掩模图案；

仿真验证模块：配置用于基于分片像素掩模图案提取多边形掩模，对所述多边形掩模进行预处理得到处理结果，并对处理结果进行仿真验证后输出仿真验证结果；

多边形掩模优化模块：配置用于基于仿真验证结果，执行多边形掩模优化的占位操作或执行多边形掩模的实际优化操作，并输出对应的操作结果；及

掩模设计图案生成模块：配置用于汇总各操作结果以作为优化后的掩模设计图案。

7.根据权利要求6所述的掩模设计图案的优化系统，其特征在于：所述像素掩模图案生成模块包括：

分片模块：配置用于将基础图案进行网格化分片处理，得到分片图案；及

数值优化模块：配置用于构造目标函数，将分片图案和目标函数输入数值优化器中，并以分片图案的像素为变量进行像素掩模优化，得到对应的像素掩模图案。

8.根据权利要求6所述的掩模设计图案的优化系统，其特征在于：所述仿真验证模块进一步包括：

多边形掩模提取模块：配置用于基于像素掩模图案做二值化处理后提取多边形掩模，所述多边形掩模包括主要图形和辅助图形；

辅助图形处理模块：配置用于对辅助图形做初步处理；主要图形处理模块：配置用于

固定经初步处理后的辅助图形，对主要图形进行光学邻近修正处理，输出处理后的多边形掩模；及

结果输出模块：配置用于对处理后的多边形掩模进行仿真验证后输出验证结果。

9.一种电子装置，其特征在于：包括存储单元及一个或多个处理单元，所述存储单元用于存储一个或多个程序；当所述一个或多个程序被所述一个或多个处理单元执行，使得所述一个或多个处理单元实现如权利要求1-5中任一项所述的掩模设计图案优化方法。