[发明专利]抛光装置、表面修整装置及抛光方法有效

专利信息
申请号: 201910134206.6 申请日: 2019-02-22
公开(公告)号: CN110774169B 公开(公告)日: 2022-01-04
发明(设计)人: 曾于平;郑人豪 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: B24B37/11 分类号: B24B37/11;B24B37/34;B24B57/02
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 抛光 装置 表面 修整 方法
【权利要求书】:

1.一种抛光装置,其特征在于,包含:

一载体,配置以支撑一基板;

一抛光垫,配置以抛光该基板的一第一表面;

一化学机械抛光研磨液输送臂,配置以将一化学机械抛光研磨液分配到该基板的该第一表面上;以及

一垫修整器,配置以修整该抛光垫,其中该垫修整器包含:

一修整盘,配置以刮擦该抛光垫,并且具有多个螺丝孔;

一修整臂,配置以旋转该修整盘;

多个磁性螺丝,配置以将该修整盘固定在该修整臂上,并包含相应的多个螺丝头;以及

多个阻挡装置,分别位于所述多个螺丝头下方,并且配置以阻挡碎屑颗粒进入相应的所述多个螺丝孔,其中每一所述阻挡装置覆盖相应的该磁性螺丝和相应的该螺丝孔之间的间隙,且部分位于相应的该磁性螺丝和相应的该螺丝孔的侧壁之间。

2.根据权利要求1所述的抛光装置,其特征在于,还包含一平台,配置以支撑和旋转该抛光垫。

3.根据权利要求1所述的抛光装置,其特征在于,该载体包含一固定环,配置以将该基板固定在预定位置。

4.根据权利要求1所述的抛光装置,其特征在于,该抛光垫包含多个表面沟槽,配置以分布该化学机械抛光研磨液。

5.根据权利要求1所述的抛光装置,其特征在于,该化学机械抛光研磨液包含一第一反应物、一磨料、一第一表面活性剂、一溶剂或其组合。

6.根据权利要求1所述的抛光装置,其特征在于,该修整盘包含一黄铜制格子型修整盘、一钻石格子型修整盘或其组合。

7.根据权利要求1所述的抛光装置,其特征在于,该修整臂配置以在该抛光垫上方延伸并扫过该抛光垫的一表面。

8.根据权利要求1所述的抛光装置,其特征在于,所述多个磁性螺丝位于多个螺丝孔中,并且其中每一所述螺丝孔介于4mm和8mm之间。

9.根据权利要求1所述的抛光装置,其特征在于,所述多个磁性螺丝包含铁、镍、钴或其组合。

10.根据权利要求1所述的抛光装置,其特征在于,所述多个阻挡装置包含一聚合物。

11.根据权利要求10所述的抛光装置,其特征在于,该聚合物包含聚氯乙烯、聚四氟乙烯或其组合。

12.一种表面修整装置,其特征在于,包含:

一修整盘,配置以使一表面粗糙化,并且具有一螺丝孔;

一修整臂,配置以平移和旋转该修整盘;

一连接元件,配置以将该修整盘固定到该修整臂上,并且包含一上表面,其中该连接元件包含一螺丝锁固至该螺丝孔;以及

一阻挡装置,位于该连接元件的该上表面下方,其中该阻挡装置覆盖该螺丝和该螺丝孔之间的间隙,且部分位于该螺丝和该螺丝孔的侧壁之间。

13.根据权利要求12所述的表面修整装置,其特征在于,该螺丝为一磁性螺丝。

14.根据权利要求13所述的表面修整装置,其特征在于,该上表面包含该磁性螺丝的一螺丝头。

15.根据权利要求12所述的表面修整装置,其特征在于,该阻挡装置包含一凸缘和一裙部。

16.根据权利要求12所述的表面修整装置,其特征在于,该阻挡装置包含聚合物,该聚合物具有5萧氏A至80萧氏D的萧氏硬度。

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