[发明专利]环抛中抛光液的循环供液装置及供液方法

说明书

本发明涉及环抛中抛光液的循环供液装置和供液方法，装置包括供液器；供液管路，其与供液器可转换连通或截止，且其固定于环抛机的多工位桥架上；多个喷嘴，按照预设间距布置于供液管路上，且与供液管路可转换连通或截止；其中预设间距指根据光学元件在环抛机上的位置对应设置喷嘴的位置；回收桶，其连接于环抛机的抛光盘底部；回收泵，其通过管路与回收桶连通，且与供液器可转换连通或截止；及控制柜，供液器、喷嘴和回收泵均与控制柜电性连接。解决了单点供给抛光液造成的抛光液分布不均匀，导致元件表面散热速度不同，引起变形的技术问题，从而改善元件内部的非均匀温度场及其引起的变形，提高加工精度；同时循环利用抛光液可以降低加工成本。

技术领域

本发明涉及光学加工技术领域，更具体的说是涉及环抛中抛光液的循环供液装置及供液方法。

背景技术

环形抛光(简称环抛)是加工大口径平面光学元件的关键技术之一。环抛机床通常采用大尺寸、高热稳定性的天然花岗岩制成抛光盘基盘，基盘表面浇制环形的沥青胶层作为抛光盘。沥青抛光盘的环带表面依次放有修正盘和工件盘，其中修正盘用于修正和控制抛光盘的形状误差，而工件盘则用于把持元件。加工时抛光盘、修正盘、工件盘均以一定的转速绕逆时针方向匀速旋转，放在工件盘内的光学元件在沥青抛光盘及其承载的抛光颗粒作用下产生材料去除从而形成光学表面。

抛光过程中，元件与抛光盘进行相对运动，它们之间的摩擦作用过程产生热量，产生的热量从元件的抛光表面进入元件内部，并从元件的各个表面散发出去，从而在元件内部形成非均匀温度场并引起元件产生变形。故在抛光过程中，抛光液的均匀供液和温度控制是工艺控制的关键要求，以此来提高元件与抛光液的对流换热速度，从而改善元件内部的温度分布均匀性及其引起的元件变形。而现有的抛光液供给方式一般为单点供给，抛光液在抛光盘表面的分布均匀性差，不利于抛光液的温度控制，导致元件因摩擦产生的热量引起元件变形；同时抛光液使用后直接废弃，得不到循环回收利用，从而造成了抛光液的浪费。

因此，如何提供一种环抛中抛光液的均匀、循环供给装置是本领域技术人员亟需解决的问题。

发明内容

有鉴于此，本发明提供了环抛中抛光液的循环供液装置，解决了环抛中抛光液不能够循环利用、均匀供给，导致元件表面因摩擦产生的热量无法及时带走引起的元件变形，降低了元件加工精度的技术问题。

为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

环抛中抛光液的循环供液装置，其搭载于环抛机上，包括：

供液器，用于储存、供给抛光液，其设置于环抛机外部；

供液管路，供液管路与供液器可转换连通或截止，且其固定于环抛机的多工位桥架上；供液管路可以包括干管和多个支管；

喷嘴，喷嘴包括多个，按照预设间距布置于供液管路上，且与供液管路可转换连通或截止；其中预设间距指根据光学元件在环抛机上的位置对应设置喷嘴的位置；喷嘴可以设置在支管上；

回收桶，回收桶连接于环抛机的抛光盘底部；用于回收从抛光盘上流下的抛光液；

回收泵，回收泵通过管路与回收桶连通，且与供液器可转换连通或截止；

及控制柜，供液器、喷嘴和回收泵均与控制柜电性连接。