[发明专利]电路设计版图和电镜扫描图像的配准方法及系统、电路设计版图和其成像误差计算方法有效

专利信息
申请号: 201910117849.X 申请日: 2019-02-15
公开(公告)号: CN111507055B 公开(公告)日: 2023-05-12
发明(设计)人: 闫歌;李强 申请(专利权)人: 深圳晶源信息技术有限公司
主分类号: G06F30/392 分类号: G06F30/392;G06T5/00;G06T5/30;G06T7/30
代理公司: 深圳市智享知识产权代理有限公司 44361 代理人: 王琴;蒋慧
地址: 518000 广东省深圳市福田*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 电路设计 版图 扫描 图像 方法 系统 成像 误差 计算方法
【权利要求书】:

1.一种电路设计版图和电镜扫描图像的配准方法,其特征在于:电路设计版图和电镜扫描图像的配准方法包括:

步骤S1:提供待配准的电路设计版图及电镜扫描图像,待配准的电路设计版图包括至少一设计图案,待配准的电镜扫描图像包括与所述至少一设计图案对应的至少一扫描图案;所述设计图案覆盖其对应的扫描图案;

步骤S2:对待配准的电路设计版图进行处理获得设计版图二值图像,该设计版图二值图像中设计图案区域内的灰度值为1,外部灰度值为0;对待配准的电镜扫描图像处理获得电镜扫描二值图像,该电镜扫描二值图像中扫描图案区域内的灰度值为1,外部灰度值为0;

步骤S3:对设计版图二值图像及电镜扫描二值图像进行高斯滤波以使得设计图案及扫描图案对应的区域之中心轴线处灰度值最大;及

步骤S4:根据设计图案及扫描图案的中心轴线进行配准。

2.如权利要求1所述的电路设计版图和电镜扫描图像的配准方法,其特征在于:步骤S1包括:

步骤S11:获取待配准的电镜扫描图像中的扫描图案之坐标;

步骤S12:根据所述坐标确定待配准的电路设计版图中对应的区域;及

步骤S13:对所述区域扩展距离D以获得扫描图案对应的设计图案,D小于等于50nm。

3.如权利要求1所述的电路设计版图和电镜扫描图像的配准方法,其特征在于:步骤S2之前或步骤S2中包括步骤Sa0:对待配准的电路设计版图中的设计图案进行平滑处理;

步骤S2中包括步骤Sa1:对设计图案进行内部填充,获得设计版图二值图像,该设计版图二值图像中设计图案区域内的灰度值为1,外部灰度值为0。

4.如权利要求1所述的电路设计版图和电镜扫描图像的配准方法,其特征在于:步骤S2包括:

步骤Sb1:对待配准的电镜扫描图像进行轮廓提取;及

步骤Sb2:对扫描图案进行内部填充,获得电镜扫描二值图像,该电镜扫描二值图像中扫描图案区域内的灰度值为1,外部灰度值为0。

5.如权利要求4所述的电路设计版图和电镜扫描图像的配准方法,其特征在于:步骤Sb1包括步骤Sb1-1及Sb1-2,或包括步骤Sb1-1’及Sb1-2’,

步骤Sb1-1及Sb1-2为:

步骤Sb1-1:通过图像处理中的边缘检测算法获取扫描图案的边缘;及

步骤Sb1-2:进行膨胀处理及腐蚀处理获得扫描图案的轮廓;

步骤Sb1-1’及Sb1-2’为:

步骤Sb1-1’:对待配准的电镜扫描图像进行腐蚀处理;及

步骤Sb1-2’:通过图像处理中的边缘检测算法获取扫描图案的轮廓。

6.如权利要求4所述的电路设计版图和电镜扫描图像的配准方法,其特征在于:步骤Sb1包括:

步骤Sb1-a:设定灰度阈值;及

步骤Sb1-b:将待配准的电镜扫描图像中的像素点的像素值与灰度阈值比较以获得扫描图案的轮廓。

7.如权利要求1所述的电路设计版图和电镜扫描图像的配准方法,其特征在于:设计版图二值图像进行高斯滤波后获得第一图像;电镜扫描二值图像进行高斯滤波获得第二图像;

在步骤S4中采用图像模板匹配方法对设计图案及扫描图案进行配准,图像模板匹配方法包括归一化的相关性系数匹配方法,计算公式为

T和I分别对应为待配准的电镜扫描图像及电路设计版图,x'及y'确定电镜扫描图像中的像素位置,T′(x',y')是电镜扫描图像中(x',y')的图像灰度值,电镜扫描图像在电路设计版图上的像素位置为(x+x',y+y'),像素值为I′(x+x',y+y')。

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