[发明专利]用于生产光学膜的聚酯切片及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910068099.1 申请日: 2019-01-24
公开(公告)号: CN109776781A 公开(公告)日: 2019-05-21
发明(设计)人: 冯艳宾;王树刚;曹双存;王淑生;田庆海 申请(专利权)人: 天津华新盈聚酯材料科技有限公司
主分类号: C08G63/78 分类号: C08G63/78;C08G63/183;C08K3/26;C08K3/30
代理公司: 天津市鼎和专利商标代理有限公司 12101 代理人: 冯舜英
地址: 301500 天津市宁河*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 聚酯切片 光学膜 均一 制备 缩聚反应釜 高分子聚合物 高速搅拌混合 二酯化反应 无机盐颗粒 乙二醇溶液 酯化反应釜 析出 常压酯化 多级过滤 高光泽度 高速搅拌 高透光率 混合浆液 搅拌转速 特性粘度 循环研磨 亚微米级 低雾度 二酯化 分散剂 胶体磨 均一性 耐候性 乳化液 悬浮液 出料 熔融 生产 添加剂 悬浮
【说明书】:

发明公开了一种用于生产光学膜的聚酯切片及其制备方法,①通过胶体磨循环研磨和高速搅拌分散,以及多级过滤机制,将亚微米级无机盐颗粒均匀的分散到含有少量分散剂的乙二醇溶液中,配制成稳定均一的悬浮乳化液;②在一酯化反应釜进行常压酯化反应,制备均一BHET熔融浆液;③将步骤②中反应浆液压入二酯化反应釜,并在二酯化体系中经静置、悬浮液及助剂加入、高速搅拌混合三个阶段,配制成均一混合浆液,将浆液压入缩聚反应釜;④在缩聚反应釜中通过控制温度、真空度、搅拌转速及出料功率,最终得到特性粘度0.655~0.665dl/g的高分子聚合物。本发明聚酯切片所生产的光学膜,具有高透光率、低雾度、高光泽度的特点,且均一性、耐候性良好,后期使用中添加剂不易析出。

技术领域

本发明涉及聚酯切片及其制备方法,具体说,是一种用于生产光学膜的聚酯切片及其制备方法。

背景技术

PET薄膜聚酯切片是目前应用最为广泛的一类薄膜生产原料,种类繁多、应用场景丰富,在国民生产中扮演着十分重要的角色。其中光学薄膜就是一个重要的分支,尤其是随着电子加工行业的不断崛起,显示设备轻量化、做大化的发展趋势,对材料的依赖也是越来越高。

但是,现有的聚酯切片制作的薄膜存在以下问题:

1、普通的纤维有光薄膜透光率低,雾度较高,对光线阻隔较大,不能胜任光学膜的要求。

2、传统的薄膜改性处理,薄膜在使用中的稳定性差。现在普遍采用的处理手段是,通过表面喷涂涂敷液,或者使用特殊溶液浸泡等二次处理手段来提高其光学性能,但是这样处理的一大弊端是,大部分液晶面板背光模组在工作过程中都会不同程度的发热,或者使用环境都很难理想的处于室温,这样就会不可避免的带来老化问题;二次处理的光学基膜因属于固-液吸附,在使用中很容易出现脱出现象,长时间使用就会出现布光不均,局部漏光等问题。

3、目前已有的理论研究中,有部分案例提及到使用纳米级添加剂对普通纤维有光聚酯切片在合成阶段进行改性处理,并在酯化反应投料阶段加入纳米级添加剂,针对这种操作,存在如下需要解决的问题:①在实际操作中,就纳米级添加剂来看,所能提供的分散剂都不能保证纳米颗粒在250℃左右的温度下不团聚(即抱团成为大颗粒,远远超出纳米颗粒的范畴);②在酯化阶段加入纳米级添加剂,由于停留时间过长,且无论是介质酯化反应还是加压酯化反应(原料使用PTA和EG),都会因为助剂的加入影响后续的光学膜用聚酯切片的色相、凝集粒子数量、二甘醇含量等,这些都是聚酯切片加工光学膜的影响因素,不能满足光学膜用聚酯切片的批量生产条件;③如果在进入预缩聚和缩聚阶段加装过滤器,实验验证无法完成正常的浆料输送,泵压非常高,这也足见其中纳米颗粒团聚的严重性。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是,提供一种用于生产光学膜的聚酯切片及其制备方法,利用本发明的聚酯切片生产加工的薄膜,无需物理涂敷、浸泡等二次加工手段,即可解决普通薄膜透光率不足的缺陷,达到光学级薄膜的指标要求。

为了解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:一种用于生产光学膜的聚酯切片制备方法,包括以下步骤:

①亚微米添加剂配制:将亚微米级金属无机盐分散到添加有质量分数1%-5%的亲水性表面活性剂的乙二醇溶液中,通过胶体磨反复循环并高速分散3-5小时,然后经0.1-1μm过滤器多级过滤,最终得到质量含量为5%-15%的乳状均一悬浮液——亚微米添加剂,留作备用;

②一酯化反应:将PTA固体粉末与乙二醇按照摩尔比1:1.24投入浆料混合罐,并由浆料混合罐均匀的泵入带有反应介质BHET的一酯化反应釜,通过常压酯化反应形成稳定均一的BHET熔融浆液;

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