[发明专利]真空蒸镀装置和真空蒸镀方法

权利要求书

1.一种真空蒸镀装置，与金属掩模板配合使用，其特征在于，所述真空蒸镀装置包括：

用于吸附所述金属掩模板的磁板，所述磁板包括中心磁板单元和位于所述中心磁板单元外周的至少一个周边磁板单元，其中，所述中心磁板单元和所述周边磁板单元相对于所述金属掩模板分别独立地可移动设置。

2.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述至少一个周边磁板单元包括多个相对于所述金属掩模板分别独立地可移动设置的周边磁板单元。

3.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述至少一个周边磁板单元包括平行设置在所述中心磁板单元两侧的至少两个周边磁板单元；所述中心磁板单元的延伸方向与所述金属掩模板中的掩模主体的长边方向垂直；优选地，位于所述中心磁板单元两侧的周边磁板单元对称设置。

4.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述至少一个周边磁板单元包围环绕所述中心磁板单元；优选地，所述中心磁板单元的形状为圆形或矩形，所述至少一个周边磁板单元的形状为与所述中心磁板单元的形状对应的圆形环或矩形环；优选地，所述至少一个周边磁板单元包括由中心磁板单元向外依次排布的多个周边磁板单元。

5.根据权利要求1所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述磁板包括安装基板以及设置在所述安装基板上的若干个磁条。

6.根据权利要求5所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述磁板上设置有多组沿同一方向排布的磁条组，每组所述磁条组中包括多个磁条；

其中，相邻两组所述磁条组中的所述磁条的远离所述安装基板的一端极性不同，且位于同一所述磁条组中的相邻两个所述磁条的极性相同或不同。

7.根据权利要求5所述的真空蒸镀装置，其特征在于，位于相邻两个所述磁条组中的各所述磁条交错排布。

8.根据权利要求5所述的真空蒸镀装置，其特征在于，所述磁条为永磁铁。

9.一种真空蒸镀的方法，其特征在于，包括：

提供金属掩模板及位于金属掩模板上的待蒸镀基板，形成待蒸镀组件；

将所述待蒸镀组件置于真空蒸镀装置中，所述真空蒸镀装置中包括磁板，所述磁板包括中心磁板单元和位于所述中心磁板单元外周的至少一个周边磁板单元；

驱动所述磁板的中心磁板单元先于所述周边磁板单元与所述待蒸镀组件贴合。

10.根据权利要求9所述的真空蒸镀方法，其特征在于，还包括：

预先调整所述磁板的结构，使得所述中心磁板单元和所述至少一个周边磁板单元面向所述待蒸镀组件的一侧形成高度差，形成初始状态；

驱动具有初始状态的所述磁板向所述待蒸镀组件移动，使得所述中心磁板单元与所述中心磁板单元贴合；

驱动所述周边磁板单元向所述待蒸镀组件移动，至所述磁板整面与所述待蒸镀组件贴合为止。

11.根据权利要求10所述的真空蒸镀方法，其特征在于，所述至少一个周边磁板单元包括多个周边磁板单元；

在调整所述磁板的结构形成初始状态的过程中，使得所述磁板面向所述待蒸镀组件的一侧由中心磁板单元向所述磁板的边缘方向形成依次变化的高度差；

在驱动所述周边磁板单元向所述待蒸镀组件移动的过程中，使得所述周边磁板单元由中心磁板单元向所述磁板的边缘方向依次与所述待蒸镀组件吸附，至所述磁板整面与所述待蒸镀组件贴合为止。