[发明专利]以聚二甲基硅氧烷为基质的上转换树脂的制备方法有效

专利信息
申请号: 201910055111.5 申请日: 2016-02-05
公开(公告)号: CN109880612B 公开(公告)日: 2022-05-17
发明(设计)人: 叶常青;孙彬;王筱梅;朱赛江;吴正伟;戚守善 申请(专利权)人: 苏州科技大学
主分类号: C08G77/04 分类号: C08G77/04;C09K11/02
代理公司: 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人: 孙周强;陶海锋
地址: 215011 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 聚二甲基硅氧烷 基质 转换 树脂 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种以聚二甲基硅氧烷为基质的上转换树脂的制备方法,其特征在于:氮气气氛中,将硅烷交联剂和二甲基硅氧烷单体按1∶20的质量比混合;然后真空处理后于60~120℃保温2~3h;然后自然冷却形成聚二甲基硅氧烷;然后,在氮气氛下,将聚二甲基硅氧烷放置在含有光敏剂和发光剂的有机溶剂中,浸泡18~30小时,取出烘干即得以聚二甲基硅氧烷为基质的上转换树脂;所述硅烷交联剂为苯基三丁酮肟基硅烷;所述含有光敏剂和发光剂的有机溶剂与聚二甲基硅氧烷的质量比为1∶1~10;真空处理时间为20~40 min;所述发光剂的化学结构通式如下:

其中R1为苯基、4-甲基苯基或者萘基;R2为氢、氯、甲基、羧基或者甲酯基;R3为苯基、4-甲基苯基或者萘基;

所述光敏剂的化学结构通式如下:

其中R选自:氢、溴、氯、甲基或者羟基;M为钯或者铂;

所述光敏剂与发光剂的摩尔比为1∶250~2500。

2.根据权利要求1所述以聚二甲基硅氧烷为基质的上转换树脂的制备方法,其特征在于:所述有机溶剂为甲苯。

3.根据权利要求1所述以聚二甲基硅氧烷为基质的上转换树脂的制备方法,其特征在于:所述聚二甲基硅氧烷的透光率为95~100%。

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