[发明专利]一种真空镀膜机

说明书

本发明公开了一种真空镀膜机，包括真空腔体、位于真空腔体顶部中间位置的镀膜鼓、位于所述镀膜鼓下方的蒸发器、位于真空腔体内两侧的靶材、以及靠近所述靶材且可以转动的工件架，所述镀膜鼓上卷绕有需要进行蒸镀的基材，所述蒸发器加热时，在蒸发器和镀膜鼓之间形成有蒸镀空间。本发明的真空镀膜机一方面能在蒸发器的作用下将镀膜材料加热蒸发，镀膜材料蒸发后向上扩散到镀膜鼓处，附着在温度较低的镀膜鼓的基材上，形成厚薄均匀的薄膜；另一方面，工件架在转动的同时均可旋转至与靶材相对的位置，从而各侧面上的工件均能完成镀膜，镀膜效率高。本发明的结构简单，能够同时进行蒸发镀膜和溅射镀膜，生产效率高，并有利于降低镀膜产品的成本。

技术领域

本发明涉及镀膜设备的技术领域，具体涉及一种真空镀膜机 。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。真空镀膜机工作时：先抽真空，使真空室处于真空状态，再通过电子枪束流对真空室底部坩埚内的镀膜材料（简称膜料）加热；膜料在加热到一定的温度后，膜料分子会产生挥发，挥发出的膜料分子沉积在真空室顶部的产品表面形成薄膜。但现有的真空镀膜机只能蒸发镀膜或溅射镀膜，生产效率低。

发明内容

为克服现有技术中的不足，本发明目的是提供一种真空镀膜机 ，能够同时进行蒸发镀膜和溅射镀膜，镀膜效率高。

为了解决上述技术问题，本发明提供了一种真空镀膜机 ，包括真空腔体、位于真空腔体顶部中间位置的镀膜鼓、位于所述镀膜鼓下方的蒸发器、位于真空腔体内两侧的靶材、以及靠近所述靶材且可以转动的工件架，所述镀膜鼓上卷绕有需要进行蒸镀的基材，所述蒸发器加热时，在蒸发器和镀膜鼓之间形成有蒸镀空间；

所述工件架由驱动机构带动进行自转。

优选的，所述驱动机构包括锥齿组和驱动电机，所述锥齿组包括与所述驱动电机转动连接的锥齿齿盘和与所述锥齿齿盘传动连接的锥齿轮，所述工件架的端部与所述锥齿轮固定连接。

其中，所述蒸发器的壳体两端分别具有电极，所述电极分别与电源的正负极接通，所述壳体上还具有辅助加热片，所述辅助加热片与壳体形成用于放置镀膜材料的容纳空间，所述辅助加热片的底部部分与所述壳体相连，所述壳体和辅助加热片均采用导电材料制成。

在本发明优选实施例中，所述工件架的横向截面呈矩形状，所述工件架的各个侧面均能装载工件。

在本发明优选实施例中，所述靶材为圆柱形靶材。

可选的，所述真空镀膜机还包括氩气输送机构，所述氩气输送机构包括氩气输送管道以及设置于所述氩气输送管道上的控制阀。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：

本发明的真空镀膜机一方面能在蒸发器的作用下将镀膜材料加热蒸发，镀膜材料蒸发后向上扩散到镀膜鼓处，附着在温度较低的镀膜鼓的基材上，形成厚薄均匀的薄膜；另一方面，往真空腔体内通入一定气压的氩气，氩气在高电压电场作用下电离为氩离子，氩离子加速轰击靶材，从而将靶材材料溅射到工件表面，形成薄膜，工件架在转动的同时均可旋转至与靶材相对的位置，从而各侧面上的工件均能完成镀膜，镀膜效率高。本发明的结构简单，能够同时进行蒸发镀膜和溅射镀膜，生产效率高，并有利于降低镀膜产品的成本。

附图说明

为了更清楚地说明本发明的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它附图。

图1是本发明实施例提供的真空镀膜机 的结构示意图。

图2是本发明实施例提供的真空镀膜机 的蒸发器的结构示意图。