[发明专利]人才评价方法、系统、存储介质及电子终端在审
申请号: | 201910016405.7 | 申请日: | 2019-01-08 |
公开(公告)号: | CN109492955A | 公开(公告)日: | 2019-03-19 |
发明(设计)人: | 刘晋元;朱悦;陈霖;郑向东;徐旻昕;王茜;王旭阳 | 申请(专利权)人: | 上海市研发公共服务平台管理中心 |
主分类号: | G06Q10/06 | 分类号: | G06Q10/06 |
代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 高彦 |
地址: | 200235 上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 评价指标 存储介质 电子终端 层次分析法 评估模型 评价对象 传统的 多层 赋予 量化 主观 | ||
本发明提供人才评价方法、系统、存储介质及电子终端,其确定多层适用于待评价对象的包含一或多个评价元素的评价指标;赋予底层评价指标的各评价元素相应的评价值和权值;基于底层评价指标的各评价元素相应的评价值和权值逐层计算其它各层评价指标的评价元素的评价值。本发明的技术方案能够建立科学、合理、可量化的人才评估模型,利于合理地开展人才评价计算,从而科学设立人才评价指标。而且,本发明基于层次分析法对各项评价指标赋予合理的权值,因此,相比于传统的仅使用主观赋值方法或者随机赋值方法而言,本发明的人才评价方法能够更加合理更加客观地评价人才。
技术领域
本发明涉及科技评价领域,特别是涉及人才评价方法、系统、存储介质及电子终端。
背景技术
高层次科技人才评价属于科技评价的范畴,是对高层次科技人才的价值进行的评价和估计。高层次科技人才评价主要有两类:科技人才成果评价和科技人才价值评价。科技人才可分为基础研究类、工程技术类和创新创业类。基础研究类偏重成果评价,后两类主要应用价值评价,为了更加公正客观的反应科技人才价值,应该兼顾两种评价方式。
高层次科技人才评价属于科技人才评价(science and technology evaluation)的范畴,是对高层次科技人才的价值进行的评价和估计,这种评价是科技管理中的重要环节和核心内容之一,也是科技研发政策制定的基本工具之一。
但是,现有的应用于科技人才评价的技术方案没有建立科学、合理、可量化的人才评估模型,导致无法合理地开展人才评价计算,无法科学设立人才评价指标。
发明内容
鉴于以上所述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供人才评价方法、系统、存储介质及电子终端,用于解决现有技术无法建立科学、合理且可量化的人才评估方法的技术问题。
为实现上述目的及其他相关目的,本发明提供一种人才评价方法,应用于电子终端,所述人才评价包括:确定多层适用于待评价对象的包含一或多个评价元素的评价指标;赋予底层评价指标的各评价元素相应的评价值和权值;基于底层评价指标的各评价元素相应的评价值和权值逐层计算其它各层评价指标的评价元素的评价值。
于本发明的一实施例中,所述方法包括:根据层次分析法将底层评价指标中的各评价元素之间进行两两比较,以构成判断矩阵;计算基于所述判断矩阵的所述底层评价指标中的各评价元素的权值;计算与上一层评价指标中各评价元素所对应的位于下一层评价指标中的各评价元素的评价值与权值的乘积和,乘积和结果值作为对应的上一层评价指标的评价元素的评价值。
于本发明的一实施例中,所述方法包括:计算所述判断矩阵的标准化矩阵;其中,令所述判断矩阵为n行n列矩阵,则所述标准化矩阵中第i行j列矩阵元素值表示为:aij表示所述判断矩阵中第i行j列矩阵元素值;计算所述标准化矩阵各行矩阵元素值的平均值,该平均值作为该行对应的评价元素的权值,其表示为:
于本发明的一实施例中,各层评价指标中的各评价元素的评价值表示为:其中,r(Xi)表示上一层评价指标中第i个评价元素的评价值,Wij表示底层评价指标中第j个评价元素的权值,Xij表示底层评价指标中第j个评价元素的评价值;其中,Wi表示上一层评价指标中第i个评价元素的权值。
于本发明的一实施例中,所述评价指标共3层,其包括顶层的一级指标,中间层的二级指标一级底层的三级指标。
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