[发明专利]等离子体发生装置有效
| 申请号: | 201880098135.2 | 申请日: | 2018-10-26 |
| 公开(公告)号: | CN112753286B | 公开(公告)日: | 2023-09-05 |
| 发明(设计)人: | 池户俊之 | 申请(专利权)人: | 株式会社富士 |
| 主分类号: | H05H1/34 | 分类号: | H05H1/34 |
| 代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 杨青;安翔 |
| 地址: | 日本爱知*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 等离子体 发生 装置 | ||
1.一种等离子体发生装置,具备:
一对电极,通过放电而产生等离子气体;
第一喷嘴部,具有多个第一气体流路,通过所述多个第一气体流路而使所述等离子气体流动;
第二喷嘴部,具有多个第二气体流路,将从所述多个第一气体流路流入的所述等离子气体从所述多个第二气体流路喷出;及
隔断部,设于所述第二喷嘴部中的相当于所述一对电极之间的位置,进行隔断以使得所述多个第一气体流路中的至少两个第一气体流路互不连接,
所述第二喷嘴部具有空间部,所述等离子气体从所述多个第一气体流路向该空间部流入,
所述多个第二气体流路连接于所述空间部,从所述多个第一气体流路经由所述空间部而使所述等离子气体流入,
所述隔断部是将所述空间部的内部分成多个空间的壁。
2.根据权利要求1所述的等离子体发生装置,其中,
所述多个第二气体流路以与所述多个第一气体流路不同的数量形成。
3.根据权利要求2所述的等离子体发生装置,其中,
所述多个第二气体流路以比所述多个第一气体流路多的数量形成。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的等离子体发生装置,其中,
所述隔断部设于所述第二喷嘴部中的所述一对电极间的中间位置。
5.根据权利要求4所述的等离子体发生装置,其中,
所述一对电极分别形成为在一个方向上较长的棒状,
所述隔断部设于使距沿着所述一对电极中的一个电极的延伸设置方向的第一直线和沿着另一个电极的延伸设置方向的第二直线成为相等的距离的所述中间位置。
6.根据权利要求1~3中任一项所述的等离子体发生装置,其中,
所述一对电极分别形成为在一个方向上较长的棒状,
在将沿着所述一对电极中的一个电极的延伸设置方向的直线设为第一直线,将沿着另一个电极的延伸设置方向的直线设为第二直线的情况下,所述隔断部设于作为相当于所述一对电极之间的位置的、所述第二喷嘴部中的由所述第一直线和所述第二直线夹着的范围。
7.根据权利要求1~3中任一项所述的等离子体发生装置,其中,
所述等离子体发生装置具有:
气体供给部,供给反应气体;及
反应室,配置有所述一对电极,通过所述一对电极的放电而将从所述气体供给部供给的所述反应气体等离子体化从而产生所述等离子气体,
所述多个第一气体流路连接于所述反应室。
8.一种等离子体发生装置,具备:
一对电极,通过放电而产生等离子气体;
第一喷嘴部,具有多个第一气体流路,通过所述多个第一气体流路而使所述等离子气体流动;
第二喷嘴部,具有多个第二气体流路,将从所述多个第一气体流路流入的所述等离子气体从所述多个第二气体流路喷出;及
隔断部,设于所述第二喷嘴部中的相当于所述一对电极之间的位置,进行隔断以使得所述多个第一气体流路中的至少两个第一气体流路互不连接,
所述多个第二气体流路通过使一个第一气体流路分支成多个第二气体流路而构成,
所述隔断部进行隔断以使得所述多个第二气体流路互不连接,由此进行隔断以使得所述多个第一气体流路互不连接。
9.根据权利要求8所述的等离子体发生装置,其中,
所述多个第二气体流路以与所述多个第一气体流路不同的数量形成。
10.根据权利要求9所述的等离子体发生装置,其中,
所述多个第二气体流路以比所述多个第一气体流路多的数量形成。
11.根据权利要求8~10中任一项所述的等离子体发生装置,其中,
所述隔断部设于所述第二喷嘴部中的所述一对电极间的中间位置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社富士,未经株式会社富士许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880098135.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:显示装置及其制造方法
- 下一篇:随机接入方法以及随机接入装置





