[发明专利]制造光学装置的方法以及所产生的光学装置

权利要求书

1.一种制造光学装置(1)的方法，所述光学装置(1)包括在填充有液晶材料的腔(7)的相对侧处的第一光学透明电极层和第二光学透明电极层(8、9)的对，所述腔(7)由边界(6)横向封闭，其中，所述第一光学透明电极层和第二光学透明电极层(8、9)分别存在于第一光学透明热塑性层和第二光学透明热塑性层(2、3)上，所述第一光学透明电极层(8)位于所述第一光学透明热塑性层(2)与光学衍射元件(4)之间，其中，所述光学衍射元件(4)与所述第二光学透明热塑性层(3)之间存在至少一个间隔物(5)，所述方法包括：

-提供所述第一光学透明热塑性层(2)，

-通过纳米压印在所述第一光学透明热塑性层(2)上形成所述光学衍射元件(4)、所述至少一个间隔物(5)，并且所述光学衍射元件(4)布置在所述边界(6)的内部，由此，所述边界封闭所述光学衍射元件；

-施加粘合剂(15)以构成所述边界(6)的至少上部，其中，所述粘合剂(15)的内边缘与所述腔(7)直接接触；

-提供所述第二光学透明热塑性层(3)，使得所述第二光学透明热塑性层(3)封闭所述腔(7)，并且其中，其上形成有所述第二光学透明电极层(9)的所述第二光学透明热塑性层(3)粘附至所述粘合剂(15)；

-利用所述液晶材料(10)填充所述腔(7)，并且

-密封所述腔(7)。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括通过热成型工艺使所述光学装置(1)弯曲的步骤。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，通过纳米压印形成的步骤包括：形成所述边界(6)的底部，在所述第一光学透明热塑性层(2)上施加材料成分的层(18)，并且在所述层(18)中纳米压印所述至少一个间隔物(5)、所述光学衍射元件(4)和所述边界(6)的所述底部。

4.根据权利要求3所述的方法，其中，在所述纳米压印步骤期间，在所述光学衍射元件(4)的表面中形成亚微米凹槽，所述亚微米凹槽被配置为用于所述液晶材料(10)的配向层。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，沉积保形配向层以覆盖所述凹槽的至少一部分。

6.根据权利要求3所述的方法，其中，所述边界的所述底部包括附加间隔物(21)。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述至少一个间隔物(5)和所述附加间隔物(21)各自具有高度，所述高度被调整以相对于所述第一光学透明热塑性层(2)而具有相同的顶部水平。

8.根据权利要求1或2所述的方法，还包括以下步骤：在所述第一光学透明热塑性层(2)上形成所述第一光学透明电极层(8)。

9.根据权利要求1或2所述的方法，其中，在所述第二光学透明热塑性层(3)封闭所述腔(7)之前将所述液晶材料(10)提供到所述腔(7)。

10.根据权利要求9所述的方法，其中，使用单滴填充工艺，包括以下步骤：

-将一定体积的所述液晶材料(10)分配到所述腔(7)中，所分配的体积与所述腔(7)的体积匹配；

-分配所述粘合剂(15)，以及

-通过真空层压工艺提供所述第二光学透明热塑性层(3)。

11.根据权利要求1或2所述的方法，其中，通道(19)形成在所述边界(6)的至少上部中并且延伸穿过所述边界(6)进入所述腔(7)中，并且其中，在利用所述第二光学透明热塑性层(3)封闭所述腔(7)之后提供所述液晶材料(10)。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，在纳米压印所述边界(6)时形成所述通道。

13.根据权利要求1或2所述的方法，还包括以下步骤：在任何热成型之前堆叠两个光学装置(1)。