[发明专利]在规程期间监测到所选择的解剖结构的距离

权利要求书

1.一种用于监测器械与对象的所监测的解剖结构的接近度的方法，所述方法包括：

确定所述器械的位置；

确定所述器械到所监测的解剖结构的距离；

确定所述器械相对于所监测的解剖结构的所述距离是否低于一个或多个阈值；以及

输出指示所述距离是低于还是高于所述一个或多个阈值的用户界面指示。

2.根据权利要求1所述的方法，其中确定所述器械的位置包括：

检测由联接到所述器械的一个或多个传感器检测到的信号的各方面。

3.根据权利要求2所述的方法，其中确定所述器械的位置包括：

基于由所述一个或多个传感器检测到的信号来确定所述一个或多个传感器的一个或多个位置。

4.根据权利要求2所述的方法，其中检测信号的各方面包括：

使得定位垫的一个或多个场发生器发射所述信号以用于由联接到所述器械的所述一个或多个传感器检测。

5.根据权利要求1所述的方法，其中确定所述器械包括：

检测由彼此处于已知相对位置的一个或多个传感器检测到的信号的各方面，所述传感器被配置成感测由联接到所述器械的一个或多个发射器生成的一个或多个信号。

6.根据权利要求5所述的方法，其中确定所述器械的位置还包括：

基于由所述传感器检测到的信号来确定所述一个或多个发射器的一个或多个位置。

7.根据权利要求1所述的方法，其中确定所述器械到所监测的解剖结构的距离包括：

识别包括所监测的解剖结构的三维模型的一个或多个部分；以及

确定所述传感器的所确定的位置到包括所监测的解剖结构的所述三维模型的所述一个或多个部分的距离。

8.根据权利要求7所述的方法，其中：

将所述三维模型配准到相对于定位垫的场发生器限定的位置并且因此配准到所述对象。

9.根据权利要求7所述的方法，其中：

所监测的解剖结构表示为所述三维模型内的一个或多个几何基元，所述一个或多个几何基元能够表示为能够围绕轴线旋转的二维形状；并且

确定所述传感器的所确定的位置到包括所监测的解剖结构的所述三维模型的所述一个或多个部分的距离包括通过在与所述一个或多个几何基元的所述二维形状对准的二维平面图中分析与所述传感器相关联的点来确定从所确定的位置到所述一个或多个几何基元的距离。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述一个或多个几何基元包括选自包括圆柱体、圆锥体、圆锥球体和线扫描球体的群组。

11.根据权利要求1所述的方法，其中：

生成所述用户界面指示包括基于所述器械到所监测的解剖结构的所确定的距离来改变所述用户界面指示的一个或多个方面。

12.一种用于监测器械与对象的所监测的解剖结构的接近度的系统，所述系统包括：

输出装置；

器械；和

工作站，所述工作站被配置成：

确定所述器械的位置；

确定所述器械到所监测的解剖结构的距离；

确定所述器械相对于所监测的解剖结构的所述距离是否低于一个或多个阈值；以及

提供指示所述距离是低于还是高于所述一个或多个阈值的用户界面指示。

13.根据权利要求12所述的系统，其中所述工作站被配置成通过以下方式来确定所述器械的位置：

检测由联接到所述器械的一个或多个传感器检测到的信号的各方面。

14.根据权利要求13所述的系统，其中所述工作站被配置成通过以下方式来确定所述器械的位置：

基于由所述一个或多个传感器检测到的信号来确定所述一个或多个传感器的一个或多个位置。