[发明专利]凹凸构造体、光学部件及电子设备有效
申请号: | 201880083625.5 | 申请日: | 2018-12-18 |
公开(公告)号: | CN111527421B | 公开(公告)日: | 2022-08-05 |
发明(设计)人: | 菊池正尚;田泽洋志;林部和弥 | 申请(专利权)人: | 迪睿合株式会社 |
主分类号: | G02B1/118 | 分类号: | G02B1/118;G02B5/02;G02B5/18 |
代理公司: | 北京瑞盟知识产权代理有限公司 11300 | 代理人: | 刘昕;孟祥海 |
地址: | 日本国东京都品川区大崎*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 凹凸 构造 光学 部件 电子设备 | ||
本发明提供一种具备更复杂的凹凸构造的凹凸构造体、光学部件、以及电子设备。所述凹凸构造体具备多个由设置在基材的表面的多个凹部或凸部构成的集合构造,在所述基材的表面上所述凹部或凸部所占的区域的平均宽度为,属于可见光范围的波长以下。
技术领域
本发明涉及凹凸构造体、光学部件及电子设备。
背景技术
近年来,广泛研发着使用具有入射光波长以下的平均周期的凹凸构造体的光学部件。这种凹凸构造体显示出与具有大于入射光波长的平均周期的凹凸构造体在原理上不同的特性,因此可期待有可能实现可具备更高特性的光学部件。
作为这种凹凸构造体,例如,在下述的专利文献1中公开了一种形成了具有入射光波长以下的平均周期的柱状构造的衍射光学元件。此外,在下述的专利文献1中还公开了该衍射光学元件通过使用激光干涉曝光法实施空间选择性曝光而形成的内容。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2007-57622号公报
发明内容
发明所要解决的课题
然而,在上述的专利文献1所公开的光学衍射元件中,由于凹凸构造通过激光干涉曝光法而形成,因此无法形成与激光光束的干涉图案对应的凹凸构造以外的任意的凹凸构造。尤其上述的专利文献1所公开的光学衍射元件未取得还排列有多个由多个凹部或凸部构成的凹凸集合体那样复杂的凹凸构造。
在此,本发明是鉴于上述问题而完成的,本发明的目的在于,提供具备更复杂的凹凸构造的凹凸构造体、设置有该凹凸构造体的光学部件、以及设置有该凹凸构造体的电子设备。
用于解决课题的手段
为了解决上述课题,根据本发明的某种观点,提供如下凹凸构造体,即,具备多个由设置在基材的表面的多个凹部或凸部构成的集合构造,所述凹部或凸部在所述基材的表面上所占的区域的平均宽度为,属于可见光范围的波长以下。
所述凹部或凸部在所述基材的表面上所占的区域的平均宽度设为a,所述凹部或凸部的与所述基材的表面对置的底面或顶面的平均宽度设为b,所述凹部或凸部的相对于所述基材的表面的垂直方向的长度设为h的情况下,在所述垂直方向上自所述基材的表面起远离h/2的位置处的所述凹部或凸部的截面的平均宽度也可以为,(a+b)/2以上。
该凹部或凸部在所述基材的表面所占的区域的平均宽度分别设为x1及x2的情况下,所述集合构造内相邻的所述凹部或凸部的重心间的平均距离也可以为,0.65(x1/2+x2/2)以上2.0(x1/2+x2/2)以下。
所述集合构造整体的平均宽度也可以为0.2μm以上。
在所述基材的表面上所述凹部或凸部所占的区域的形状也可以为大致圆形状。
在所述集合构造内,所述凹部或凸部的相对于所述基材的表面的垂直方向的长度的每一个也可以属于中心值不同的至少2个以上的组中的任一项。
在所述集合构造内,所述凹部或凸部在所述基材的表面所占的区域的平均宽度的每一个也可以属于中心值不同的至少2个以上的组中的任一项。
所述凹部或凸部的相对于所述基材的表面的垂直方向的长度也可在所述集合构造内阶段性地变化。
所述凹部或凸部在所述基材的表面所占的区域的平均宽度也可在所述集合构造内阶段性地变化。
所述凹部或凸部的相对于所述基材的表面的垂直方向的长度也可以在所述集合构造内不规则地变化。
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