[发明专利]成膜方法有效
| 申请号： | 201880082156.5 | 申请日： | 2018-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN111511476B | 公开（公告）日： | 2022-05-03 |
| 发明（设计）人： | 长谷川昌孝;金沢勇人 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | B05D1/02 | 分类号： | B05D1/02;B05D3/00;B05D3/02;B05D3/06;B05D3/10;B05D3/12;C23C24/04;G02F1/13 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 张志楠;褚瑶杨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 方法 | ||
1.一种成膜方法，其特征在于，
通过将包含成膜材料的原料液形成为漂浮在气体中的液体粒子，由此形成所述液体粒子与周围的所述气体的混合体即气溶胶，向基材供给所述气溶胶，将所述成膜材料成膜于所述基材上，
其中，
在向所述基材供给所述气溶胶之前，开始所述基材的振动，向以10kHz以下的频率振动的所述基材供给所述气溶胶，将所述成膜材料成膜于所述基材上。
2.根据权利要求1所述的成膜方法，其中，
将所述成膜材料成膜于所述基材上之后，向所形成的膜照射活性放射线。
3.根据权利要求1或2所述的成膜方法，其中，
一边加热所述基材，一边向所述基材供给所述气溶胶。
4.根据权利要求3所述的成膜方法，其中，
将所述基材加热至表面温度达到100℃以上。
5.根据权利要求1或2所述的成膜方法，其中，
所述基材的振动速度为0.1mm/秒钟以上。
6.根据权利要求1或2所述的成膜方法，其中，
通过以下方式中的一种以上进行所述基材的振动：
向所述基材的声波照射、向所述基材的送风及所述基材的支撑机构的振动。
7.根据权利要求1或2所述的成膜方法，其中，
所述基材的被成膜面具有：对所述原料液具有亲液性的区域及对所述原料液具有疏液性的区域。
8.根据权利要求1或2所述的成膜方法，其中，
向所述基材供给所述气溶胶之前，进行所述基材的表面处理。
9.根据权利要求8所述的成膜方法，其中，
所述基材的表面处理为摩擦处理、亲液化处理、疏液化处理及基底层的形成之中的一种以上。
10.根据权利要求1或2所述的成膜方法，其中，
所述成膜材料为液晶化合物。
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