[发明专利]表皮生长因子受体抑制剂在审
| 申请号： | 201880078961.0 | 申请日： | 2018-10-05 |
| 公开（公告）号： | CN111511727A | 公开（公告）日： | 2020-08-07 |
| 发明（设计）人： | K.V.扎维亚洛夫;S.L.戈尔布诺娃;A.E.谢卡武索;M.A.卡萨基纳;D.D.别克托娃;N.V.柯泽米亚吉纳;K.I.库里施;E.A.马克西门科;M.V.梅莱斯纳;O.A.梅尔恰耶娃;A.L.迈迪奇;D.V.莫罗佐夫;A.V.波普科娃;I.A.斯密塔宁;S.A.西洛诺夫;I.A.索达托娃;G.V.雅各布森 | 申请（专利权）人： | 拜奥卡德联合股份公司 |
| 主分类号： | C07D401/06 | 分类号： | C07D401/06;C07D403/06;C07D239/42;C07D213/74;C07D401/10;C07D403/10;A61K31/506;A61K31/505;A61K31/44;A61K31/444;A61P35/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 童春媛;黄登高 |
| 地址： | 俄罗斯联*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 表皮 生长因子 受体 抑制剂 | ||
1.一种式I的化合物或其药学上可接受的盐、溶剂化物或立体异构体：
其中L为-C(O)-或-CHOH-；
X1为CH或N；
A为
或，其中
各X2、X3、X4、X5、X6独立地为C、CH或N，
各R1独立地为氢；卤基；氰基；硝基；羟基；未被取代或者被一个或几个选自卤基、羟基、-NR2R3的基团取代的C1-C6烷基；未被取代或者被一个或几个选自卤基、-NR2R3、羟基、C1-C6烷氧基、未被取代或者被一个或几个选自卤基、羟基、-NR2R3的基团取代的芳基的基团取代的C1-C6烷氧基；未被取代或者被一个或几个选自卤基、C1-C6烷基、羟基、-NR2R3的基团取代的芳氧基；未被取代或者被一个或几个选自卤基、羟基、-NR2R3的基团取代的C3-C6环烷氧基；C1-C6烷氧基C1-C6烷基；-NR2R3；未取代或者被一个或几个选自卤基、羟基、-NR2R3的基团取代的芳基；具有1-2个选自N、O和/或S的杂原子，未被取代或者被一个或几个选自卤基、氰基、C1-C6烷基、羟基、C1-C6烷氧基、-NR2R3的取代基取代的5-6元杂芳基；具有1-2个选自N和/或O的杂原子，未被取代或者被一个或几个选自卤基、氰基、羟基、氧代、C1-C6烷基、C1-C6烷氧基、-NR2R3的取代基取代的4-7元杂环基；
各R2或R3独立地为氢；未被取代或者被一个或几个选自卤基、羟基、C1-C6烷氧基的基团取代的C1-C6烷基；
k为0、1、2或3；
卤基为氟、溴、氯或碘。
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