[发明专利]用于生产基板的方法

说明书

本申请涉及用于生产基板的方法。本申请的用于生产基板的方法可以均匀地形成具有根据期望的单元间隙的高度的间隔物，并且还可以自由地控制所述间隔物的高度。

技术领域

本申请要求基于在2017年11月24日提交的韩国专利申请第10-2017-0158103号的优先权权益，其公开内容通过引用整体并入本文。

本申请涉及用于生产基板的方法。

背景技术

已知能够通过在彼此相对设置的两个基板之间设置液晶化合物等来调节透光率或颜色的光学装置。例如，专利文献1公开了应用液晶主体和二色性染料客体的混合物的所谓的GH单元(guest host cell，宾主单元)。在这样的装置中，所谓的间隔物位于上述两个基板之间以保持基板之间的间隔。

作为间隔物，通常使用所谓的球状(或珠状)间隔物和柱状间隔物。柱状间隔物为固定在基板上的形式，其通常通过使光敏树脂曝光并显影来形成。例如，如图1所示，在基板基础层10上形成光敏树脂层20之后，通过经由掩模30用光(箭头)照射基板基础层10然后除去曝光部分或未曝光部分的方法来在基板基础层10上形成间隔物40。

{现有技术文献}

{专利文献}

专利文献1：欧洲专利公开第0022311号

发明内容

技术问题

本申请涉及用于生产基板，例如，包括间隔物的基板的方法。

本申请的一个目的是提供用于生产基板的方法，其中可以均匀地形成间隔物以在制造元件时保持均匀的单元间隙，并且还可以根据目的自由地控制单元间隙的范围。

技术方案

本申请的用于生产基板的方法包括使形成在基板基础层的表面上的光敏树脂组合物层曝光并显影以生产间隔物的步骤。

在本申请的生产方法中，使用包含光敏树脂和珠的光敏树脂组合物的层作为以上曝光和显影过程中的光敏树脂组合物层。在一个实例中，如图2示意性所示，待经由掩模30曝光的基板基础层10上的光敏树脂组合物层50可以包含珠501和光敏树脂。通过以这种方式应用珠，可以在光敏树脂组合物层的曝光和显影过程期间均匀地保持整个光敏树脂组合物层区域的高度。因此，根据本申请的用于生产基板的方法可以在基板基础层上形成具有均匀高度的间隔物。此外，通过控制珠的尺寸和/或比率，可以根据期望的单元间隙自由地控制间隔物的尺寸(高度)，并且即使生产具有高的高度的间隔物，间隔物也可以生产成具有均匀的高度。存在于光敏树脂层中的珠可以在曝光过程之后的显影过程中被除去，或者可以保留在间隔物中。

作为基板基础层，例如，可以没有特别限制地应用在已知光学装置例如LCD(液晶显示器)的配置中的基板中使用的任何基础层。例如，基板基础层可以为无机基础层或有机基础层。作为无机基础层，可以例示玻璃基础层等，作为有机基础层，可以例示各种塑料膜等。塑料膜可以由TAC(三乙酰纤维素)膜；COP(环烯烃共聚物)膜，例如降冰片烯衍生物；丙烯酸类膜，例如PMMA(聚(甲基丙烯酸甲酯))；PC(聚碳酸酯)膜；聚烯烃膜，例如PE(聚乙烯)或PP(聚丙烯)；PVA(聚乙烯醇)膜；DAC(二乙酰纤维素)膜；Pac(聚丙烯酸酯)膜；PES(聚醚砜)膜；PEEK(聚醚醚酮)膜；PPS(聚苯砜)膜；PEI(聚醚酰亚胺)膜；PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)膜；PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)膜；PI(聚酰亚胺)膜；PSF(聚砜)膜或PAR(聚芳酯)膜等来例示，但不限于此。

在本申请的基板中，基础层的厚度也没有特别限制，其中可以根据应用来选择适当的范围。