[发明专利]光吸收体的制造方法

说明书

光吸收体的制造方法包括：第一步骤(S100)，该步骤对树脂基板照射离子束；第二步骤(S110)，该步骤使用碱溶液对上述照射后的树脂基板进行蚀刻从而在其表面形成凹凸面；第三步骤(S120)，该步骤形成覆盖上述蚀刻后的树脂基板的凹凸面的转印体；以及第四步骤(S130)，该步骤从上述树脂基板剥离上述转印体从而得到光吸收体。作为转印体的例子，公开了金属膜、光固化性树脂、硅橡胶。

技术领域

本发明涉及一种光吸收体的制造方法，特别是，涉及一种在宽波长区域内反射率低的光吸收体的制造方法。

背景技术

红外摄像机用于各工业领域。例如，可举出工厂的工艺的温度监测、温度异常的检测、集成电路基板的耐热试验、畜牧业领域中的牛、猪的体温管理、安防系统、流感对策等中的人的体温检测等。

对于一般的可见光用摄像机而言，在透镜、框体内进行黑色涂装来降低可见光的杂散光、漫反射，而对于红外摄像机而言，降低红外线的杂散光、漫反射并不容易。

已知英国萨里纳米系统公司(Surrey NanoSystems Ltd.)的VANTABLACK(注册商标)是碳纳米管定向的低反射体，在紫外线至远红外线的波长区域内反射率非常低。另外，已知有将离子束照射到玻璃状碳基材并在表面形成针状的形状的防反射结构体(例如，参考专利文献1)。

本申请发明人等将来自回旋加速器的离子束照射到CR-39基板，对该基板进行蚀刻，进而在其表面形成Ni/Cr膜和DLC层，开发了可见至近红外的波长区域400nm～1700nm的波长的光的全反射率为1％～3％的光吸收体(参考非专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特许第5177581号说明书。

非专利文献

非专利文献1：《Fabrication of hard-coated optical absorbers withmicrostructured surfaces using etched ion tracks:toward broadband ultra-lowreflectance》,雨宫邦招及其余8人,Nuclear Instruments and Methods in PhysicsResearch B,vol.356-357,2015年,p.154-159。

发明内容

发明所要解决的课题

本发明的目的是提供一种反射率低的光吸收体的制造方法。

用于解决课题的手段

根据本发明的一方面，提供一种光吸收体的制造方法，其包括：第一步骤，该步骤对树脂基板照射离子束；第二步骤，该步骤使用碱溶液对上述照射后的树脂基板进行蚀刻从而在其表面形成凹凸面；第三步骤，该步骤形成覆盖上述蚀刻后的树脂基板的凹凸面的转印体；以及第四步骤，该步骤从所述树脂基板剥离上述转印体从而得到光吸收体。

根据上述方面，通过离子束照射和蚀刻处理将形成在树脂基板的凹凸形状转印到转印体，将该转印体作为光吸收体，从而通过转印的凹凸形状制造反射率低的光吸收体。

根据本发明的另一方面，提供一种光吸收体的制造方法，其包括：第一步骤，该步骤对树脂基板照射离子束；以及第二步骤，该步骤使用碱溶液对上述照射后的树脂基板的表面进行蚀刻，通过上述第一步骤和第二步骤，在上述树脂基板上形成了4μm～15μm的波长的全反射率为0.1％以下的凹凸面。

附图说明

图1是表示本发明的一实施方式的光吸收体的制造方法的流程图。

图2是本发明的实施例1的光吸收体的表面的电子显微镜照片。

图3是表示本发明的实施例1的光吸收体的全反射率的图。