[发明专利]高分子薄膜的制造装置以及制造方法在审
申请号: | 201880070986.6 | 申请日: | 2018-12-03 |
公开(公告)号: | CN111295274A | 公开(公告)日: | 2020-06-16 |
发明(设计)人: | 富永善章;箕浦洁;和田惠太 | 申请(专利权)人: | 东丽株式会社 |
主分类号: | B29C41/36 | 分类号: | B29C41/36;B29C41/24;B29C41/38;B29C41/42 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 高分子 薄膜 制造 装置 以及 方法 | ||
1.高分子薄膜的制造装置,其为制造具有特定形状的高分子薄膜的制造装置,所述制造装置具备:
具有伸缩性的模具,其在表面上形成有凹凸,且所述凹凸的凸部的顶面的形状为所述特定形状;
模具供给机构,其供给、搬送所述模具;
涂布单元,其将包含高分子材料的涂布材料以被覆由所述模具供给机构搬送的所述模具的所述凸部的顶面的方式涂布于形成有所述凹凸的面;
干燥单元,其与所述涂布单元相比位于搬送方向下游侧,使所涂布的所述涂布材料干燥而形成高分子覆膜;
剥离单元,其与所述干燥单元相比位于搬送方向下游侧,通过将所述模具拉伸或使所述模具伸缩1次以上,从而将所述高分子覆膜从所述凸部的顶面剥离,得到所述高分子薄膜;和
回收单元,其将被从所述凸部的顶面剥离的所述高分子薄膜回收。
2.根据权利要求1所述的高分子薄膜的制造装置,其中,所述剥离单元为不与附着于所述模具的所述凸部的顶面的所述高分子覆膜接触的结构。
3.根据权利要求1或2所述的高分子薄膜的制造装置,其中,所述模具的伸缩断裂率为300%以上。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的高分子薄膜的制造装置,其中,所述模具在被拉伸至伸长率300%之后的复原率为95%以上。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的高分子薄膜的制造装置,其中,所述模具的所述凸部的顶面的形状为圆形或者多边形,从形成有所述凹凸的面观察所述模具时,以所述圆形或者所述多边形最密填充地配置的方式形成有所述凹凸。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的高分子薄膜的制造装置,其中,在所述干燥单元与所述剥离单元之间,还具备1组以上的涂布单元与干燥单元的组,
各个组的涂布单元是用于在利用其搬送方向上游侧的干燥单元所形成的高分子覆膜之上、涂布包含与该高分子覆膜的材料不同的高分子材料的涂布材料的涂布单元。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的高分子薄膜的制造装置,其中,所述剥离单元具备使所述模具伸缩的张力调节机构。
8.高分子薄膜的制造方法,其为制造具有特定形状的高分子薄膜的制造方法,所述方法中,
搬送具有伸缩性的模具,所述具有伸缩性的模具在表面上形成有凹凸,且所述凹凸的凸部的顶面的形状为所述特定形状,
将高分子材料以被覆被搬送的所述模具的所述凸部的顶面的方式涂布于形成有所述凹凸的面,
接着,使所涂布的所述高分子材料干燥来形成高分子覆膜,
接着,将所述模具拉伸或使所述模具伸缩1次以上,将干燥后的所述高分子覆膜从所述凸部的顶面剥离,得到高分子薄膜,
将被从所述模具剥离的所述高分子薄膜回收。
9.根据权利要求8所述的高分子薄膜的制造方法,其中,以不与附着于所述模具的所述凸部的顶面的所述高分子覆膜接触的方式,将所述高分子覆膜从所述凸部的顶面剥离。
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