[发明专利]曝光装置及曝光方法

权利要求书

1.一种曝光装置，其具备：

光掩模，其在掩模面内分离地形成有基准位置部和曝光用光透射部，所述光掩模相对于被曝光基板沿着扫描方向相对地移动，其中，所述被曝光基板沿着所述扫描方向形成有已有的基准图案；

拍摄部，其与所述光掩模一体地配置，并且拍摄所述基准图案和所述基准位置部；以及

控制部，其进行如下控制，对基准位置部数据和基准图案数据进行比较，其中，所述基准位置部数据和所述基准图案数据是通过所述拍摄部对所述基准位置部和所述被曝光基板中的部分曝光预定区域的所述基准图案进行拍摄而得到的数据，并且所述控制部检测在与所述被曝光基板的所述扫描方向形成直角的宽度方向上的所述光掩模的偏移量而计算出所述光掩模的暂定移动量，随着所述部分曝光预定区域向在所述曝光用光透射部进行曝光的位置移动，基于所述暂定移动量使所述光掩模在所述宽度方向上移动，

所述曝光装置对所述被曝光基板中的沿着所述扫描方向的所述部分曝光预定区域进行连续或间歇性地曝光，

所述控制部将偏转特性作为偏转特性数据而预先存储，并且基于所述偏转特性数据对所述暂定移动量施加补正而使所述光掩模在所述宽度方向上移动，其中，所述偏转特性是伴随所述被曝光基板和所述光掩模向所述扫描方向的相对的移动而产生的、所述被曝光基板或所述光掩模的偏转状态发生变化的装置固有的偏转特性，

所述曝光装置检测由所述拍摄部拍摄到的所述被曝光基板的在所述宽度方向上延伸的已有的宽度方向图案中的所述宽度方向的两端部的、所述扫描方向的彼此位置的差，并且检测所述偏转特性的随时间的变化，在所述宽度方向图案的所述两端部的所述扫描方向的彼此位置的差大于允许值时，更新所述偏转特性数据。

2.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，

所述被曝光基板沿着基板搬运导轨向所述扫描方向被搬运，

所述光掩模被设置成在所述扫描方向上的既定位置处，能够在与所述扫描方向形成直角的所述宽度方向上移动。

3.根据权利要求1所述的曝光装置，其中，

从形成于所述被曝光基板的黑矩阵、栅极线、源极线、像素电极的列、以及滤色片的列等中选择所述基准图案及所述宽度方向图案。

4.一种曝光方法，其具备以下工序：

使光掩模相对于被曝光基板向扫描方向相对地移动的工序，其中，在所述光掩模的掩模面内分离地形成有基准位置部和曝光用光透射部，所述被曝光基板沿着所述扫描方向形成有已有的基准图案；

对所述基准位置部和形成于所述被曝光基板的与部分曝光预定区域对应的位置上的所述基准图案进行拍摄的工序；

对拍摄到的基准图案位置数据与基准位置部数据进行比较，检测与所述扫描方向形成直角的宽度方向上的、所述光掩模相对于所述被曝光基板的偏移量，计算出所述光掩模的暂定移动量的工序；

在随着所述被曝光基板和所述光掩模向所述扫描方向的相对移动而所述部分曝光预定区域到达与所述曝光用光透射部对应的位置并进行曝光之前，基于由所述被曝光基板或所述光掩模的相对动作产生的、所述被曝光基板或所述光掩模的偏转状态变化的预先设定的装置固有的偏转特性数据，对所述光掩模的暂定移动量施加补正，计算出补正移动量，并且基于该补正移动量，使所述光掩模沿着所述宽度方向移动的工序；以及

通过所述曝光用光透射部向所述部分曝光预定区域内进行曝光的工序，

通过检测由拍摄部拍摄到的所述被曝光基板的在所述宽度方向上延伸的已有的宽度方向图案的两端部在所述扫描方向上的位置的差，由此检测出偏转特性的随时间的变化，在所述宽度方向图案的两端部在所述扫描方向上的位置的差大于允许值时，更新所述偏转特性数据。

5.根据权利要求4所述的曝光方法，其中，

所述被曝光基板沿着基板搬运导轨向所述扫描方向被搬运，

所述光掩模设置成在所述扫描方向上的既定位置处，能够在与所述扫描方向形成直角的所述宽度方向上移动。

6.根据权利要求4所述的曝光方法，其中，

从形成于所述被曝光基板的黑矩阵、栅极线、源极线、像素电极的列、以及滤色片的列等中选择所述基准图案及所述宽度方向图案。