[发明专利]六氟丁二烯的制造方法在审
申请号: | 201880068452.X | 申请日: | 2018-10-23 |
公开(公告)号: | CN111247120A | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
发明(设计)人: | 高桥一博;大东祐子;伊与田淳平 | 申请(专利权)人: | 大金工业株式会社 |
主分类号: | C07C17/386 | 分类号: | C07C17/386;C07C21/18;C07C21/20 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 丁二烯 制造 方法 | ||
本发明通过在提取溶剂存在下对含有六氟丁二烯和选自八氟-1-丁烯、八氟-2-丁烯、七氟-1-丁烯及七氟-2-丁烯中的至少1种的追加化合物的原料组合物进行提取蒸馏而降低上述追加化合物的浓度,得到高纯度的六氟丁二烯。
技术领域
本发明涉及一种六氟丁二烯的制造方法。
背景技术
目前,为了高速化、省电化,对半导体器件进行了微细化和利用新型材料等研究。在半导体器件的微细加工中,碳氟化合物是合适的,其中六氟丁二烯(也称为CF2=CFCF=CF2、1,1,2,3,4,4-六氟丁二烯等)作为用于形成半导体、液晶等的最先进的微细结构的蚀刻气体受到了关注。
关于干蚀刻气体,为了提高其成品率,杂质必须极少。作为通常用于干蚀刻的气体的纯度,例如可以使用纯度99.99%(4N)、99.999%(5N)这样的高纯度的化合物。另一方面,作为六氟丁二烯的制造方法,例如已知有使相对应的卤化物与金属锌反应的脱卤化反应(例如参照专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开昭62-26240号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
然而,在利用专利文献1所记载的反应精制得到的六氟丁二烯中,作为追加化合物,例如含有八氟-1-丁烯、八氟-2-丁烯、七氟-1-丁烯、七氟-2-丁烯等。
六氟丁二烯和上述的追加化合物在结构上类似,并且沸点相近。因此,难以利用通常的蒸馏法分离,要求得到高纯度的六氟丁二烯的方法。
本发明是为了解决上述那样的技术问题而完成的发明,其目的在于:提供一种得到高纯度的六氟丁二烯的方法。
用于解决技术问题的技术方案
为了解决上述的技术问题,本发明的发明人进行了精心研究,作为结果,直至完成本发明。本发明包含以下的构成。
项1.一种六氟丁二烯的制造方法,其包括:在提取溶剂存在下,对含有六氟丁二烯和选自八氟-1-丁烯、八氟-2-丁烯、七氟-1-丁烯及七氟-2-丁烯中的至少1种的追加化合物的原料组合物进行提取蒸馏,从而降低上述追加化合物的浓度的工序。
项2.如项1所述的制造方法,其中,上述提取蒸馏所使用的提取溶剂为选自含氧烃和含卤烃中的至少1种溶剂。
项3.一种分离六氟丁二烯和选自八氟-1-丁烯、八氟-2-丁烯、七氟-1-丁烯及七氟-2-丁烯中的至少1种的追加化合物的方法,其包括:
在提取溶剂存在下将含有六氟丁二烯和上述追加化合物的组合物供于提取蒸馏的工序。
项4.如项3所述的方法,其中,上述提取溶剂包含选自含氧烃和含卤烃中的至少1种化合物。
项5.一种组合物,其是含有六氟丁二烯和选自八氟-1-丁烯、八氟-2-丁烯、七氟-1-丁烯及七氟-2-丁烯中的至少1种的追加化合物的组合物,将上述组合物总量设为100摩尔%时,上述追加化合物的含量小于0.1摩尔%。
项6.一种共沸组合物,其含有六氟丁二烯和选自八氟-1-丁烯、八氟-2-丁烯、七氟-1-丁烯及七氟-2-丁烯中的至少1种的追加化合物。
项7.如项5或6所述的组合物,其为蚀刻气体、冷媒、传热介质、发泡剂或树脂单体用组合物。
发明效果
利用本发明,能够得到高纯度的六氟丁二烯。
附图说明
图1表示进行本发明的分离方法(六氟丁二烯的制造方法)的装置的一个例子。
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