[发明专利]用于尤其焊接加工工件的加工设备和方法有效
申请号: | 201880068014.3 | 申请日: | 2018-10-10 |
公开(公告)号: | CN111225763B | 公开(公告)日: | 2023-03-14 |
发明(设计)人: | J-P·埃尔马尼;S·凯斯勒;F·多施;H·布劳恩 | 申请(专利权)人: | 通快激光与系统工程有限公司 |
主分类号: | B23K26/03 | 分类号: | B23K26/03;B23K31/12;G01B5/00;G01B9/02091;G01B9/02055;G01B11/22;G01B11/24;B23K26/044 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 侯鸣慧 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 尤其 焊接 加工 工件 设备 方法 | ||
1.一种用于加工工件(2)的加工设备(1),包括:
用于提供用于加工所述工件(2)的加工射束的加工头(3),
光学干涉仪,该光学干涉仪包括:
用于产生具有源功率(PQ)的辐射(9)的射束源(8),用于将所述射束源(8)的源功率(PQ)分配到参考路径(13)和测量路径(14)上的分束器装置(12),在所述参考路径中布置有后向反射器(17),在所述测量路径中布置有所述工件(2),以及探测器(22),该探测器用于探测由在所述测量路径(14)中的工件(2)和在所述参考路径(13)中的后向反射器(17)反射和/或散射到所述探测器(22)的辐射(9)的总功率(PR+PM),
其特征在于,
执行装置(27、27a),该执行装置用于改变由所述后向反射器(17)反射和/或散射到所述探测器(22)的辐射(9)在总功率(PR+PM)中的功率份额(PR),以及
调节装置(26),该调节装置用于作用到所述执行装置(27、27a)上,以将在由工件(2)反射和/或散射到探测器(22)的辐射(9)的功率份额(PM)和由后向反射器(17)反射和/或散射到探测器(22)的辐射(9)的功率份额(PR)之间的比例(PM/PR)调节到目标比例(PMS/PRS),其中,所述执行装置(27)构造用于改变辐射(9)在参考路径(13)中的功率份额(PR)或者在测量路径(14)中的功率份额(PM),其中,所述执行装置(27)构造用于作用在聚焦装置(16a、16b)上,以改变在参考路径(13)中的辐射(9)的焦点位置(F1、F2),其中,所述聚焦装置布置在光纤的射出侧端部和所述后向反射器(17)之间,使得通过改变所述聚焦装置与所述光纤的射出侧端部和/或后向反射器(17)之间的距离发生在所述后向反射器(17)上反射回的辐射的散焦。
2.根据权利要求1所述的加工设备,其中,所述执行装置(27a)构造用于改变射束源(8)的辐射(9)的源功率(PQ)到参考路径(13)和测量路径(14)上的分配。
3.根据权利要求1所述的加工设备,其中,所述执行装置(27)构造用于改变布置在参考路径(13)中的后向反射器(17)的反射率(RR)。
4.根据权利要求1所述的加工设备,其中,所述聚焦装置包括能够运动的透镜(16a、16b)。
5.根据权利要求1所述的加工设备,其中,所述执行装置(27)具有光学过滤装置(29)。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的加工设备,进一步包括:
用于改变射束源(8)的源功率(PQ)的另外的执行装置(30),其中,所述调节装置(26)构造用于操控所述另外的执行装置(30),以将反射和/或散射到探测器(22)的总功率(PR+PM)调节到总功率阈值(PRS+PMS)以下。
7.根据权利要求1所述的加工设备,其中,所述光学干涉仪是光学相干断层扫描仪(7)。
8.根据权利要求7所述的加工设备,其中,所述光学相干断层扫描仪(7)构造用于光谱分辨地探测反射回探测器(22)的总功率(PR+PM)。
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