[发明专利]层合体有效

专利信息
申请号: 201880059350.1 申请日: 2018-09-17
公开(公告)号: CN111094370B 公开(公告)日: 2022-02-11
发明(设计)人: 姜那那;具世真;李美宿;李应彰;崔银英;尹圣琇;朴鲁振;李济权;柳亨周;许允衡 申请(专利权)人: 株式会社LG化学
主分类号: C08F220/30 分类号: C08F220/30;C08F212/14;B32B27/28;B32B27/08;B29C71/02
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 高世豪;尚光远
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 合体
【说明书】:

本申请涉及用于制备图案化基底的方法。所述方法可以应用于制造诸如电子装置和集成电路的装置的过程,或者其他应用,例如集成光学系统、磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、液晶显示器(LCD)、薄膜磁头或有机发光二极管等的制造,并且还可以用于诸如集成电路、比特图案化介质和/或磁存储装置如硬盘驱动器的离散轨道介质的制造用于在表面上构建图案。

技术领域

本申请要求基于2017年9月15日提交的韩国专利申请第10-2017-0118723号的优先权的权益,其公开内容通过引用整体并入本文。

本申请涉及层合体。

背景技术

嵌段共聚物是其中具有不同化学结构的聚合物嵌段经由共价键连接的共聚物。这样的嵌段共聚物可以通过相分离形成周期性排列的结构,例如球形、柱体或层状。通过嵌段共聚物的自组装现象形成的结构的域的形状和尺寸可以通过例如形成各嵌段的单体的种类或嵌段之间的相对比率等来广泛地控制。

由于这样的特性,考虑将嵌段共聚物应用于纳米线制造、诸如量子点或金属点的下一代纳米元件的制造、或者能够在预定的基底上形成高密度图案的光刻法等(参见例如非专利文献1等)。

在各种基底上水平或垂直地调节嵌段共聚物的自组装结构的取向的技术在嵌段共聚物的实际应用中占非常大的比例。通常,嵌段共聚物膜中的纳米结构的取向由嵌段共聚物的何种嵌段暴露于表面或空气来决定。通常,由于许多基底具有极性并且空气是非极性的,因此嵌段共聚物的嵌段中具有较大极性的嵌段对基底润湿,并且具有较小极性的嵌段在与空气的界面处润湿。因此,已经提出了各种技术以使嵌段共聚物的具有不同特性的嵌段同时在基底侧上润湿,并且最具代表性的技术是应用中性表面制备来调节取向。

另一方面,在通过使用嵌段共聚物在基底上形成图案的光刻法的应用中重要的是,确保自组装嵌段共聚物的图案(例如,层状图案)的线性度。

[现有技术文献]

[非专利文献]

(非专利文献1)Chaikin和Register等,Science 276,1401(1997)

发明内容

技术问题

本申请提供了用于制备层合体的方法。本申请的一个目的是提供其中可以有效地形成垂直取向并具有优异线性度的嵌段共聚物的自组装图案的层合体。

技术方案

在本说明书中,除非另外说明,否则术语单价或二价烃基可以意指衍生自由碳和氢构成的化合物或其衍生物的单价或二价残基。在此,由碳和氢构成的化合物可以例示为烷烃、烯烃、炔烃、脂环族烃或芳族烃。

在本说明书中,除非另外说明,否则术语烷基可以意指具有1至20个碳原子、1至16个碳原子、1至12个碳原子、1至8个碳原子或1至4个碳原子的烷基。烷基可以是线性、支化或环状烷基,其可以任选地经一个或更多个取代基取代。

在本说明书中,除非另外说明,否则术语烷氧基可以意指具有1至20个碳原子、1至16个碳原子、1至12个碳原子、1至8个碳原子或1至4个碳原子的烷氧基。烷氧基可以是线性、支化或环状烷氧基,其可以任选地经一个或更多个取代基取代。

除非另外说明,否则本文中的术语烯基或炔基意指具有2至20个碳原子、2至16个碳原子、2至12个碳原子、2至8个碳原子或2至4个碳原子的烯基或炔基。烯基或炔基可以是线性、支化或环状的,其可以任选地经一个或更多个取代基取代。

除非另外说明,否则本文中的术语亚烷基可以意指具有1至20个碳原子、1至16个碳原子、1至12个碳原子、1至8个碳原子或1至4个碳原子的亚烷基。亚烷基可以是线性、支化或环状亚烷基,其可以任选地经一个或更多个取代基取代。

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