[发明专利]用于X射线相衬和/或暗场成像的衍射光栅

权利要求书

1.一种用于X射线相衬和/或暗场成像的光栅，所述光栅包括：

基板；

多个材料层；

其中，所述多个材料层被形成在所述基板的表面上；

其中，所述多个材料层跨所述基板的所述表面彼此横向地间隔开；

其中，所述多个材料层中的材料层包括多种材料；

其中，所述多种材料在垂直于所述基板的所述表面的方向上一个在另一个的顶部上地形成；

其中，所述多种材料包括所具有的k边缘吸收能量高于金的k边缘吸收能量的至少一种材料并且包括金；并且

其中，所述多个材料层中的所述材料层中的金的厚度小于所述材料层的总厚度的30％。

2.根据权利要求1所述的衍射光栅，其中，所具有的k边缘吸收能量高于金的k边缘吸收能量的所述至少一种材料中的材料是铅。

3.根据权利要求1-2中的任一项所述的衍射光栅，其中，所具有的k边缘吸收能量高于金的k边缘吸收能量的所述至少一种材料中的材料是铋。

4.根据权利要求1-3中的任一项所述的衍射光栅，其中，所述多种材料包括所具有的k边缘吸收能量低于金的k边缘吸收能量的至少一种材料。

5.根据权利要求4所述的衍射光栅，其中，所具有的k边缘吸收能量低于金的k边缘吸收能量的所述至少一种材料中的材料是钨。

6.根据权利要求4-5中的任一项所述的衍射光栅，其中，所具有的k边缘吸收能量低于金的k边缘吸收能量的所述至少一种材料中的材料是铁。

7.根据权利要求4-6中的任一项所述的衍射光栅，其中，所具有的k边缘吸收能量低于金的k边缘吸收能量的所述至少一种材料中的材料是钨-铁合金。

8.根据权利要求1-7中的任一项所述的衍射光栅，其中，所述多个材料层通过多个抗蚀剂层彼此横向地间隔开。

9.根据权利要求1-8中的任一项所述的衍射光栅，其中，所述多个材料层中的所述材料层中的金的厚度小于所述材料层的总厚度的10％。

10.一种X射线相衬和/或暗场系统，包括根据前述权利要求中的任一项所述的用于X射线相衬和/或暗场成像的衍射光栅。

11.一种制造用于X射线相衬和/或暗场成像的光栅的方法，所述方法包括：

a)在基板的表面上形成光致抗蚀剂层；

b)使用表示所需光栅结构的掩模利用辐射来照射所述光致抗蚀剂层；

c)对所述光致抗蚀剂层进行蚀刻以去除所述光致抗蚀剂层的部分，从而留下多个沟槽，所述多个沟槽跨所述基板的所述表面彼此横向地间隔开；

d)在所述基板的所述表面上形成多个材料层，其中，每个层被形成在沟槽中，其中，材料层包括多种材料，其中，所述多种材料在垂直于所述基板的所述表面的方向上一个在另一个的顶部上地形成，并且其中，所述多种材料包括所具有的k边缘吸收能量高于金的k边缘吸收能量的至少一种材料并且包括金；并且

其中，所述多个材料层中的所述材料层中的金的厚度小于所述材料层的总厚度的30％。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所具有的k边缘吸收能量高于金的k边缘吸收能量的至少一种材料是铅和/或铋。

13.根据权利要求11-12中的任一项所述的方法，其中，在步骤d)中，所述多种材料包括所具有的k边缘吸收能量低于金的k边缘吸收能量的至少一种材料。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，所具有的k边缘吸收能量低于金的k边缘吸收能量的所述至少一种材料是钨和/或铁和/或钨-铁合金。

15.根据权利要求11-14中的任一项所述的方法，包括去除在所述多个材料层之间的多个抗蚀剂层的步骤e)。