[发明专利]框架一体型掩模

说明书

本发明提供一种框架一体型掩模。本发明的框架一体型掩模，由多个掩模(100)和用于支撑掩模的框架(200)一体形成，其特征在于，框架(200)包括：边缘框架部(210)；以及至少一个第一栅格框架部(220)，其朝第一方向延伸形成，而且两端与边缘框架部(210)连接，各掩模(100)与框架(200)的上部一体地连接。

技术领域

本发明涉及一种框架一体型掩模，更具体地，涉及一种可以使框架与掩模构成一体并准确地进行各掩模间的对齐(alignment)的框架一体型掩模。

背景技术

最近，有关薄板制造中电铸(Electroforming)方法的研究正在进行。电铸方法通过阳极体、阴极体浸渍于电解液中并施加电源，从而使金属薄板电沉积于阴极体的表面，因此是一种能够制造极薄板并有望量产的方法。

另一方面，作为在OLED制造工序中形成像素的技术，主要是利用FMM(Fine MetalMask，精密金属掩模)法，通过该方法将薄膜的金属掩模(阴影掩模，Shadow Mask)紧贴在基板上并将有机物蒸镀于所需位置上。

在现有的OLED制造工序中，以棒状、板状等制造掩模后，使掩模焊接固定在OLED像素蒸镀框架上并使用。一个掩模可具有对应于一个显示器的多个单元。另外，为了制造大面积OLED，可使多个掩模固定在OLED像素蒸镀框架，在固定到框架上的过程中，会进行拉伸而使各掩模变得平坦。为了使掩模整体上变得平坦而调节拉伸力属于非常困难的作业。特别是为了一边使各单元都平坦化且一边对齐尺寸为数～数十μm的掩模图案，需要一边微细地调节施加于掩模各侧的拉伸力一边实时地确认对齐状态的高难度作业。

尽管如此，使多个掩模固定在一个框架的过程中，存在掩模间和掩模单元间无法很好地对齐的问题。另外，在将掩模焊接固定在框架的过程中，由于掩模膜的厚度过薄且面积大，因此，存在掩模因荷重而下垂或扭曲的问题。

在超高画质的OLED中，现有的QHD画质为500-600PPI(pixel per inch，每英寸像素)，像素的尺寸达到约30-50μm，而4K UHD、8K UHD高画质具有比之更高的～860PPI、～1600PPI等的分辨率。因此，考虑到超高画质的OLED的像素尺寸，需要将各单元之间的对齐误差缩减为数μm左右，超出这一误差将导致产品的不良，收率可能极低。因此，需要开发能够防止掩模的下垂或者扭曲等变形并且使对齐精确的技术以及将掩模固定于框架的技术等。

发明内容

技术问题

因此，本发明为了解决如上所述的现有技术中的各种问题而提出的，其目的在于，提供一种掩模与框架可构成一体型结构的框架一体型掩模。

另外，本发明的目的在于提供一种可防止掩模下垂或扭曲等变形并准确地进行对齐的框架一体型掩模。

另外，本发明的目的在于提供一种可明显缩短制造时间并显著提高收率的框架及框架一体型掩模。

解决手段

本发明的上述目的可通过框架一体型掩模来实现，所述框架一体型掩模由多个掩模和用于支撑掩模的框架一体形成，所述框架包括：边缘框架部；以及至少一个第一栅格框架部，其朝向第一方向延伸形成，且两端与边缘框架部连接，而且各掩模与框架的上部一体地连接。

框架还可以包括至少一个第二栅格框架部，所述第二栅格框架部朝向与第一方向垂直的第二方向延伸形成，并与第一栅格框架部交叉，而且两端与边缘框架部连接。

框架可沿着第一方向、与第一方向垂直的第二方向中至少一方向具有多个掩模单元区域。

掩模单元区域可以为除了边缘框架部、第一栅格框架部及第二栅格框架部所占区域以外的中空状的区域。

各掩模单元区域可连接有各掩模。

各掩模可包括一个掩模单元。