[发明专利]框架一体型掩模

权利要求书

1.一种框架一体型掩模，其由多个掩模与用于支撑掩模的框架一体形成，其中，框架包括：

边缘框架部；

至少一个第一栅格框架部，其朝向第一方向延伸形成，且两端与边缘框架部连接；以及

至少一个第二栅格框架部，其朝向与第一方向垂直的第二方向延伸形成，并与第一栅格框架部交叉，而且两端与边缘框架部连接，

各掩模与框架的上部一体地连接，

边缘框架部、第一栅格框架部、第二栅格框架部以及多个掩模的材料为因瓦，

边缘框架部、第一栅格框架部以及第二栅格框架部形成为一体，边缘框架部的厚度大于第一栅格框架部及第二栅格框架部的厚度，

第一栅格框架部及第二栅格框架部的垂直于长度方向的截面形状为三角形、梯形或者边、角中至少一个为弧形的三角形、梯形。

2.如权利要求1所述的框架一体型掩模，其中，框架沿着第一方向、与第一方向垂直的第二方向中的至少一方向具有多个掩模单元区域。

3.如权利要求2所述的框架一体型掩模，其中，掩模单元区域为，除边缘框架部、第一栅格框架部及第二栅格框架部所占区域以外的中空状的区域。

4.如权利要求2所述的框架一体型掩模，其中，各掩模单元区域连接有各掩模。

5.如权利要求4所述的框架一体型掩模，其中，各掩模包括一个掩模单元。

6.如权利要求4所述的框架一体型掩模，其中，各掩模包括多个掩模单元。

7.如权利要求2所述的框架一体型掩模，其中，框架沿着第一方向和第二方向具有n×m个掩模单元区域，其中n、m为整数，

在框架的各掩模单元区域上连接有各掩模，多个掩模的掩模单元的数量总和大于n×m个。

8.如权利要求7所述的框架一体型掩模，其中，多个掩模的掩模单元的数量总和为n×m个的k倍，其中k为整数。

9.如权利要求1所述的框架一体型掩模，其中，框架沿着与第一方向垂直的方向具有多个掩模单元区域，

各掩模包括多个掩模单元，而且框架的各掩模单元区域上连接有各掩模。

10.如权利要求1所述的框架一体型掩模，其中，掩模包括形成有多个掩模图案的掩模图案部以及掩模图案部周边的虚设部，

虚设部的至少一部分与框架连接。

11.如权利要求1所述的框架一体型掩模，其中，边缘框架部与第一栅格框架部之间的间隔等于第一栅格框架部与其相邻的第一栅格框架部之间的间隔。

12.如权利要求1所述的框架一体型掩模，其中，边缘框架部为四边形。

13.如权利要求1所述的框架一体型掩模，其中，连接在一掩模单元区域的掩模与连接在所述掩模单元区域相邻的掩模单元区域的掩模之间的PPA(像素位置精度)不超过3μm。

14.一种框架，其连接有多个掩模，其中，框架包括：

边缘框架部；

至少一个第一栅格框架部，其朝第一方向延伸形成，而且两端与边缘框架部连接；以及

至少一个第二栅格框架部，其朝向与第一方向垂直的第二方向延伸形成，并与第一栅格框架部交叉，而且两端与边缘框架部连接，

其中，边缘框架部、第一栅格框架部以及第二栅格框架部形成为一体，边缘框架部的厚度大于第一栅格框架部及第二栅格框架部的厚度，

第一栅格框架部及第二栅格框架部的垂直于长度方向的截面形状为三角形、梯形或者边、角中至少一个为弧形的三角形、梯形。

15.如权利要求14所述的框架，其中，沿着第一方向、与第一方向垂直的第二方向中的至少一方向具有多个掩模单元区域。