[发明专利]用于光波导制造的方法

权利要求书

1.一种用于生产光波导的方法；所述方法包含以下步骤：

（a）在基板上沉积包含以下的第一组合物：（i）包含环氧基和烯基并且具有不大于1.49的折射率的第一聚硅氧烷；（ii）包含至少两个环氧基并且具有不大于1000的分子量和不大于1.49的折射率的至少一种第一化合物；（iii）具有150至1,500的M_n、至少一个与硅原子键合的氢原子和至少1.50的折射率的第二聚硅氧烷；（iv）至少一种光酸产生剂；（v）至少一种氢化硅烷化催化剂，和（vi）至少一种氢化硅烷化抑制剂；

（b）通过暴露于穿过掩模的紫外光来固化所述第一组合物，以生产包含所述第一组合物的固化部分和所述第一组合物的未固化部分的图案化芯层；

（c）去除所述第一组合物的所述未固化部分的至少一部分以生产最终图案化芯层；

（d）在0.01至300小时的时间之后，在所述最终图案化芯层上沉积折射率比所述第一组合物的折射率低至少0.002的第二组合物，所述第二组合物包含：（i）包含环氧基并且具有不大于1.49的折射率的第三聚硅氧烷，和（ii）包含至少两个环氧基并且具有不大于1000的分子量和不大于1.49的折射率的至少一种第二化合物；（iii）至少一种醇；和（iv）生产复合材料的至少一种光酸产生剂，和

（e）通过暴露于紫外光来固化；和

（f）在20至210℃的温度下加热0.1至10小时。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述第一化合物和所述第二化合物中的每一种具有1.3至1.48的折射率。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述第一组合物包含20至80 wt%的至少一种第一聚硅氧烷、5至50 wt%的至少一种第一化合物和3至30 wt%的至少一种第二聚硅氧烷。

4.根据权利要求3所述的方法，其中所述第二组合物包含30至80 wt%的至少一种第三聚硅氧烷和5至60 wt%的至少一种第二化合物和0.5至25 wt%的至少一种伯醇。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述第二聚硅氧烷包含具有至少一个C₆-C₂₀芳基取代基的至少一个D单元。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述第一聚硅氧烷包含25至60摩尔%的具有式Ep¹SiO_3/2的单元，其中Ep¹为经环氧基取代的C₃-C₂₀烷基；2至20摩尔%的具有式Ar¹SiO_3/2的单元，其中Ar¹为C₆-C₂₀芳基；15至40摩尔%的具有式R⁵R⁶R⁷SiO_1/2的单元，其中R⁵和R⁶独立地为C₁-C₁₂烷基，并且R⁷为C₂-C₁₂烯基；和10至40摩尔%的具有式R⁸SiO_3/2的单元，其中R⁸为C₁-C₁₂烷基。