[发明专利]脱模膜

权利要求书

1.脱模膜，其为在基材膜的至少一个面具有脱模层的脱模膜，所述脱模膜的雾度值为1.5～8.0％，且所述脱模层为活性能量射线固化性组合物的固化层，所述活性能量射线固化性组合物包含具有碳原子数8以上的烷基的化合物。

2.根据权利要求1所述的脱模膜，其中，所述具有碳原子数8以上的烷基的化合物为在分子中包含烯键式不饱和基团和碳原子数8以上的烷基的化合物。

3.根据权利要求1或2所述的脱模膜，其中，活性能量射线固化性组合物含有在分子中具有2～10个烯键式不饱和基团且不具有碳原子数8以上的烷基的化合物。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的脱模膜，其常态剥离力(A)为1.5N/50mm以下，加热剥离力(B)为2.0N/50mm以下，且所述常态剥离力与所述加热剥离力之差(B-A)为1.3N/50mm以下。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的脱模膜，其中，所述脱模层的表面自由能为20～35mJ/cm。

6.根据权利要求1～5中任一项所述的脱模膜，其中，基材膜的厚度小于50μm。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的脱模膜，其中，基材膜为3层层叠结构。

8.脱模膜的制造方法，其为制造在基材膜的至少一个面具有脱模层的脱模膜的方法，所述脱模膜的雾度值为1.5～8.0％，且所述制造方法具有下述工序：通过对包含具有碳原子数8以上的烷基的化合物的组合物照射活性能量射线而制成固化层，从而形成所述脱模层。