[发明专利]加热器有效
申请号: | 201880050701.2 | 申请日: | 2018-08-03 |
公开(公告)号: | CN110999532B | 公开(公告)日: | 2022-06-28 |
发明(设计)人: | 鹤泽俊浩;田中壮宗;中西阳介;山田恭太郎;待永广宣 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | H05B3/84 | 分类号: | H05B3/84;H05B3/12;H05B3/20 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 加热器 | ||
加热器(1a)具备由有机高分子形成的片状的支撑体(10)、发热体(20)、以及与发热体(20)接触的一对供电用电极(30)。发热体(20)为由含有铟氧化物作为主成分的多晶体形成的透明导电膜。加热器(1a)中,发热体(20)具有1.4×10‑4Ω·cm~3×10‑4Ω·cm的电阻率。发热体(20)的厚度超过20nm且为100nm以下。
技术领域
本发明涉及加热器。
背景技术
一直以来,已知有具备包含铟锡氧化物(ITO)的薄膜的发热体的面状加热器。
例如,专利文献1中,记载了在玻璃基板上具备将以铟锡氧化物(ITO)为主成分的糊剂烧结而形成的薄膜ITO发热体的加热玻璃。ITO发热体如下形成:将具有规定的平均粒径的ITO的球状颗粒与溶剂和树脂混合而制作ITO糊剂,将该ITO糊剂丝网印刷到玻璃基板上,进行烧结,从而形成。例如,ITO糊剂在480℃下烧结30分钟。记载了由此形成具有低的电阻率且具有高的透过率的ITO发热体。
专利文献2中提出了一种透明面状加热器,其具备在聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等透明有机高分子薄膜上通过DC磁控溅射法形成有铟氧化物/Ag/铟氧化物的层叠薄膜的结构。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2016-46237号公报
专利文献2:日本特开平6-283260号公报
发明内容
根据专利文献1,通过将ITO糊剂烧结而形成的ITO发热体具有0.0001Ωcm以上且20Ωcm以下的低电阻率,并且在波长400~1500nm下具有高的透过率。另一方面,专利文献1记载的技术中,为了可耐受ITO糊剂的烧结而必需玻璃基板等。因此,专利文献1记载的技术中,没有设想在由有机高分子形成的片状的支撑体上形成作为ITO等透明导电膜的发热体,专利文献1中记载的加热玻璃无法应用辊对辊(roll-to-roll)的制造。此外,难以在具有曲面形状的位置设置或粘贴专利文献1中记载的加热玻璃。
根据专利文献2的透明面状加热器,由于使用有机高分子薄膜作为基板,因此能够应用辊对辊的制造。此外,认为专利文献2的透明面状加热器容易设置或粘贴于具有曲面形状的位置。但是,通常认为包含Ag薄膜的层叠体容易因薄膜产生划痕而使Ag薄膜发生腐蚀,在制造时和施工时难以处理。需要说明的是,专利文献2中还提出了一种透明面状加热器,其具备在聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等透明有机高分子薄膜上通过DC磁控溅射法形成有ITO的结构。根据该透明面状加热器,虽然能够防止薄膜的划痕所导致的腐蚀,但ITO的电阻率高,因此ITO膜具有400nm这样的非常厚的厚度。因此,有可能因制造时或施工时的薄膜的弯曲变形而使ITO膜容易产生裂纹。
如此,根据专利文献1,能够在玻璃基板上通过将ITO糊剂烧结而形成低电阻率且高透明的ITO发热体,但为了可耐受ITO糊剂的烧结而必需玻璃基板等,无法在由有机高分子形成的薄膜状的支撑体上形成作为ITO等透明导电膜的发热体。另一方面,专利文献2中,提出了一种透明面状加热器,其将透明有机高分子薄膜用于基材,通过DC磁控溅射法形成有铟氧化物/Ag/铟氧化物薄膜层叠体或厚度400nm的ITO薄膜。但是,根据专利文献2中记载的技术,有可能容易发生制造时或施工时的划痕所导致的腐蚀或弯曲所导致的裂纹。
因此,本发明提供在由有机高分子形成的片状的支撑体上形成的发热体对刮擦或弯曲具有高的耐受性的加热器。
本发明提供一种加热器,其具备:
片状的支撑体,其由有机高分子形成;
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