[发明专利]偏振片

权利要求书

1.一种偏振片，其是将层叠体沿一个以上方向进行拉伸得到的，

所述层叠体具有起偏器材料膜和贴合在所述起偏器材料膜上的未拉伸的基材膜，

所述起偏器材料膜为通过干式拉伸以1.5以上且5.5以下的拉伸倍率X进行拉伸而得到的、用于制造起偏器的膜，

所述起偏器材料膜的面内方向的相位差Re1为10nm以上，

所述起偏器材料膜的厚度T1为40μm以下。

2.根据权利要求1所述的偏振片，其中，

在以拉伸倍率6.0/X对所述层叠体进行自由端单轴拉伸时，所述起偏器材料膜的厚度T2为20μm以下。

3.根据权利要求1或2所述的偏振片，其中，所述起偏器材料膜的Nz系数为0.95以上且1.5以下。

4.根据权利要求1或2所述的偏振片，其中，所述基材膜在50℃～120℃的温度条件下进行自由端单轴拉伸至4.0倍时产生的面内方向的相位差Re2为0nm以上且20nm以下。

5.根据权利要求1或2所述的偏振片，其中，所述基材膜为包含选自环烯烃树脂、非晶质聚酯树脂、聚烯烃树脂以及丙烯酸树脂中的至少1种膜。

6.根据权利要求1或2所述的偏振片，其中，

所述基材膜为包含环烯烃树脂的膜，

所述环烯烃树脂包含环烯烃系聚合物，

所述环烯烃系聚合物包含选自降冰片烯系单体的开环聚合物的氢化物、降冰片烯系单体与α-烯烃的加成共聚物及其氢化物中的至少1种。

7.根据权利要求1或2所述的偏振片，其中，

所述基材膜为包含环烯烃树脂的膜，

所述环烯烃树脂包含环烯烃系聚合物，

所述环烯烃系聚合物包含将嵌段共聚物D进行氢化了的嵌段共聚物氢化物，

所述嵌段共聚物D包含聚合物嵌段A和聚合物嵌段B或者聚合物嵌段A和聚合物嵌段C，

所述聚合物嵌段A以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元I为主成分，

所述聚合物嵌段B以来自芳香族乙烯基化合物的重复单元I和来自链状共轭二烯化合物的重复单元II为主成分，

所述聚合物嵌段C以来自链状共轭二烯化合物的重复单元II为主成分。

8.根据权利要求1或2所述的偏振片，其中，所述基材膜含有增塑剂和/或柔软剂。

9.根据权利要求8所述的偏振片，其中，所述增塑剂和/或柔软剂为酯系增塑剂、脂肪族烃聚合物或它们的混合物。