[发明专利]涂层切削工具及其制造方法在审
申请号: | 201880049407.X | 申请日: | 2018-07-03 |
公开(公告)号: | CN110945156A | 公开(公告)日: | 2020-03-31 |
发明(设计)人: | 法伊特·席尔;多米尼克·迪赫勒 | 申请(专利权)人: | 瓦尔特公开股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/32;C23C30/00;C23C28/04;C23C14/34;C23C14/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 郭国清;宫方斌 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 涂层 切削 工具 及其 制造 方法 | ||
1.一种制造涂层切削工具的方法,所述涂层切削工具由基材和单层或多层硬质材料涂层组成,所述基材选自硬质合金、金属陶瓷、陶瓷、立方氮化硼(cBN)、多晶金刚石(PCD)或高速钢(HSS),并且所述硬质涂层包含至少一个AlaCrbMecOdNe层,其中a、b、c、d和e是原子比,并且其中
a+b+c+d+e=1,
a、b、d和e各自>0,
c=0或c>0,
a≥b,
c/(a+b+c)≤0.1,优选≤0.05,
0.1≤d/(d+e)≤0.5,
其中Me是选自Ti、Zr、Ta、Nb、Hf、Si和V的至少一种元素,并且
其中所述AlaCrbMecOdNe层通过电弧气相沉积工艺(电弧-PVD)使用含Al和Cr的靶来沉积,所述靶中Al:Cr的原子比在95:5至50:50的范围内,并且其中
-反应气体混合物含有O2气体和N2气体,其中任选地,一部分或全部的所述O2气体和一部分的所述N2气体被含氮和氧的气体代替,所述含氮和氧的气体选自一氧化二氮N2O、一氧化氮NO、二氧化氮NO2和四氧化二氮N2O4,
-所述反应气体混合物任选地含有一种或多种惰性气体,
-总气体压力在7Pa至20Pa的范围内,
-O2分压为0.001Pa至0.1Pa,
-0.002≤(流速(O2)/流速(N2)≤0.02,
-(流速(O2)+流速(N2))/流速(惰性气体)≥4。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述靶中Al:Cr原子比在90:10至50:50的范围内,优选在80:20至60:40的范围内。
3.根据权利要求1和2中的任一项所述的方法,其中所述总气体压力≥8Pa,优选≥10Pa,和/或所述总气体压力≤15Pa。
4.根据前述权利要求中的任一项所述的方法,其中(流速(O2)+流速(N2))/流速(惰性气体)≥5,优选≥8,或者所述反应气体混合物不含惰性气体。
5.根据前述权利要求中的任一项所述的方法,其中总蒸发器电流(以安培[A]计)与O2流速(以sccm计)的比率在15:1至6:1的范围内,优选在14:1至10:1的范围内。
6.根据前述权利要求中的任一项所述的方法,其中偏压在20至100V的范围内。
7.根据前述权利要求中的任一项所述的方法,其中所述O2分压在0.01至0.1Pa的范围内,优选在0.01至0.02Pa的范围内。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瓦尔特公开股份有限公司,未经瓦尔特公开股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201880049407.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类