[发明专利]聚(酰胺-酰亚胺)共聚物膜及其制备方法

说明书

本发明涉及具有高延迟并且表现出低吸湿率的芳族聚(酰胺‑酰亚胺)共聚物膜及其制备方法。

技术领域

相关申请的交叉引用

本申请要求于2018年1月3日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2018-0000881号和于2018年12月3日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2018-0153913号的申请日的权益，其全部内容通过引用并入本文。

本发明涉及芳族聚(酰胺-酰亚胺)共聚物膜及其制备方法。

背景技术

芳族聚酰亚胺树脂是主要具有无定形结构的聚合物，并且由于其刚性链结构而表现出优异的耐热性、耐化学性、电特性和尺寸稳定性。这样的聚酰亚胺树脂被广泛用于电气/电子材料。然而，聚酰亚胺树脂在使用方面具有许多限制，因为聚酰亚胺树脂由于存在于酰亚胺链中的π电子的CTC(charge transfer complex，电荷转移络合物)的形成而为深棕色。

为了解决该限制并获得无色透明的聚酰亚胺树脂，已经提出了以下方法：通过引入强吸电子基团例如三氟甲基(-CF₃)来限制π电子移动的方法；通过向主链中引入砜基(-SO₂-)、醚基(-O-)等以形成弯曲结构来减少CTC的形成的方法；或者通过引入脂族环状化合物来抑制π电子的共振结构的形成的方法。

然而，根据上述提议的聚酰亚胺树脂由于弯曲结构或脂族环状化合物而难以表现出足够的耐热性，并且使用其制备的膜仍具有限制，例如差的机械特性。

最近，为了改善聚酰亚胺的耐刮擦性，开发了具有引入的聚酰胺单元结构的芳族聚(酰胺-酰亚胺)共聚物。然而，当聚酰胺单元结构被引入到聚酰亚胺中时，耐刮擦性得到改善，但确保UV屏蔽功能存在限制。

因此，一直需要开发能够改善耐刮擦性和机械特性并且同时改善UV屏蔽功能的芳族聚(酰胺-酰亚胺)共聚物。

发明内容

技术问题

本发明的一个目的旨在提供在表现出优异的耐刮擦性和机械特性的同时具有改善的UV屏蔽功能的芳族聚(酰胺-酰亚胺)共聚物膜。

本发明的另一个目的旨在提供用于制备上述芳族聚(酰胺-酰亚胺)共聚物膜的方法。

技术方案

提供了芳族聚(酰胺-酰亚胺)共聚物膜，其中550nm波长下的厚度方向上的延迟(Rth)为3000nm或更大，以及根据以下通式1的吸湿率为3.6％或更小。

[通式1]

吸湿率＝(W1-W2)*100％/W2

在通式1中，W1为通过将芳族聚(酰胺-酰亚胺)共聚物膜浸渍在超纯水中24小时测量的重量，以及W2为通过在浸渍之后将芳族聚(酰胺-酰亚胺)共聚物膜在150℃下干燥30分钟测量的重量。

还提供了用于制备芳族聚(酰胺-酰亚胺)共聚物膜的方法，其包括以下步骤：使芳族二胺单体、芳族二酐单体或环丁烷-1,2,3,4-四羧酸二酐和芳族二羰基单体反应以形成芳族聚(酰胺-酰亚胺)共聚物；以及将通过使芳族聚(酰胺-酰亚胺)共聚物溶解在含有具有3个或更多个碳原子的脂族基团的酰胺溶剂中形成的涂覆溶液涂覆在基材上。

在下文中，将更详细地描述根据本发明的一个具体实施方案的芳族聚(酰胺-酰亚胺)共聚物膜及其制备方法。

根据本发明的一个实施方案，可以提供这样的芳族聚(酰胺-酰亚胺)共聚物膜：其中550nm波长下的厚度方向上的延迟(Rth)为3000nm或更大，以及根据通式1的吸湿率为3.6％或更小。