[发明专利]粘合剂层、带粘合剂层的光学膜、光学层叠体及图像显示装置有效
申请号: | 201880043108.5 | 申请日: | 2018-08-07 |
公开(公告)号: | CN110809616B | 公开(公告)日: | 2022-11-15 |
发明(设计)人: | 木村智之;小野宽大;外山雄祐 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | C09J7/30 | 分类号: | C09J7/30;B32B27/00;B32B27/30;C09J7/20;C09J11/06;C09J11/08;C09J133/00;G02B5/30;G02F1/1335;G02F1/13363;G09F9/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 王利波 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 粘合剂 光学 层叠 图像 显示装置 | ||
1.一种粘合剂层,其由粘合剂组合物形成,该粘合剂组合物至少含有(甲基)丙烯酸类聚合物(A)和硅化合物(B)作为单体单元,所述(甲基)丙烯酸类聚合物(A)含有(甲基)丙烯酸烷基酯,
其中,作为单体单元,所述(甲基)丙烯酸类聚合物(A)在形成所述(甲基)丙烯酸类聚合物(A)的全部单体成分中含有15重量%以下的含羧基单体,
所述硅化合物(B)是在分子内具有酸性基团或者来自酸性基团的酸酐基团的有机聚硅氧烷化合物,
将带粘合剂层的偏振膜的粘合剂层贴合于具有透明基材和铟-锡复合氧化物层的透明导电性基材上的所述铟-锡复合氧化物层,形成层叠体,将层叠体在50℃、5个大气压的条件下进行15分钟的高压釜处理,然后将该粘合剂层剥离,此时,通过X射线光电子分光分析在所述铟-锡复合氧化物层面检测出的硅元素相对于碳、氮、氧、硅、铟、锡的元素量的总计的比率为0.5atomic%以上且5atomic%以下,所述带粘合剂层的偏振膜具有所述粘合剂层和偏振膜。
2.根据权利要求1所述的粘合剂层,其中,相对于所述(甲基)丙烯酸类聚合物(A)100重量份,所述硅化合物(B)为0.05~10重量份。
3.根据权利要求1所述的粘合剂层,其中,所述粘合剂组合物包含含有反应性官能团的硅烷偶联剂,
所述反应性官能团为环氧基、巯基、氨基、异氰酸酯基、异氰脲酸酯基、乙烯基、苯乙烯基、乙酰乙酰基、酰脲基、硫脲基、(甲基)丙烯酰基及杂环基中的任意1种以上。
4.根据权利要求3所述的粘合剂层,其中,相对于所述(甲基)丙烯酸类聚合物(A)100重量份,所述含有反应性官能团的硅烷偶联剂为0.01~10重量份。
5.根据权利要求1所述的粘合剂层,其中,
所述粘合剂组合物进一步含有选自含芳香环(甲基)丙烯酸酯、含酰胺基单体、含羟基单体中的1种以上共聚单体作为单体单元。
6.根据权利要求1所述的粘合剂层,其中,所述含羧基单体在形成所述(甲基)丙烯酸类聚合物(A)的全部单体成分中为0.1重量%以上。
7.根据权利要求1所述的粘合剂层,其中,所述粘合剂组合物含有交联剂。
8.根据权利要求1所述的粘合剂层,其对铟-锡复合氧化物层的粘接力在剥离角度90°、剥离速度300mm/分的条件下为15N/25mm以下。
9.一种带粘合剂层的光学膜,其具有光学膜和权利要求1~8中任一项所述的粘合剂层。
10.一种光学层叠体,其中,权利要求9所述的带粘合剂层的光学膜的粘合剂层被贴合于具有透明基材和透明导电层的透明导电性基材的所述透明导电层。
11.一种图像显示装置,其使用了权利要求9所述的带粘合剂层的光学膜、或权利要求10所述的光学层叠体。
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