[发明专利]低发射率玻璃

说明书

本发明涉及低发射率玻璃，其包括：玻璃衬底；形成在所述玻璃衬底上的第一电介质层；形成在所述第一电介质层上的金属层；形成在所述金属层上的吸收层；形成在所述吸收层上的第二电介质层；以及形成在所述第二电介质层上并且含有Zr的涂层，由此提供了具有良好并且优异的处理和长期储存性质的低发射率玻璃。

技术领域

本发明涉及具有优异的耐久性、处理和长期储存性质的低发射率玻璃。

背景技术

通过在玻璃表面上特别地涂覆，低发射率玻璃在夏季反射太阳辐射热并且在冬季保持由室内加热器产生的红外线，由此增加建筑物的节能作用。

此类低发射率玻璃主要以两种方式制造。一种是其中在玻璃制造过程期间将半导体前体均匀地应用于热玻璃带上，使得前体通过玻璃热被分解和涂覆的方法。另一种是其中通过在真空室中溅射金属靶进行涂覆的方法。

在前者的情况下，通常通过涂覆SnO₂:F材料来进行制造，并且由于相对稳定的氧化物的在高温下的沉积和使用，涂膜的涂覆程度具有非常牢固的性质但低发射率性质。在后者的情况下，通过以膜的形式涂覆金属来进行制造，并且考虑价格、颜色和低发射率性质，主要使用银作为金属。此外，由于银具有低耐久性的性质，以玻璃衬底/电介质/银/电介质/保护层的形式制造低发射率玻璃。然而，由于相对不稳定的银的物理沉积和使用，涂层是不牢固的，并且因此耐久性是差的。

因此，出于改善低发射率玻璃的涂层的目的，已经提出了各种方法。例如，在第1,080,245号欧洲注册专利的情况中，将Zn氧化物与Sn一起添加以用作电介质，将Ti层用作银的保护层，并且将附加层用作顶部保护层。在第5,834,103号美国注册专利的情况中，将Zn氧化物用作电介质，将Ti用作银的保护层，并且将Si氮化物用作顶部保护层。在第6,010,602号美国注册专利的情况中，将Zn-Sn氧化物用作电介质，将Ti用作银的保护层，并且将TiO₂用作顶部保护层。如以上所述，已经进行了使用各种材料和各种结构的发明以改善基于金属的低发射率玻璃的耐久性。然而，在具有高的温度和湿度的雨季的地区中，耐久性，尤其耐湿性是不好的。因此，需要研究以解决当长时间储存在高温度和高湿度的地区中时由于涂膜的劣化的诸如光点和变色缺陷的问题。

发明内容

技术问题

本发明的方面提供了具有除了耐久性以外的优异的处理性质(例如耐寒性和耐酸性)和长期储存性质的低发射率玻璃。

技术方案

根据本发明的方面，提供了低发射率玻璃，其包括玻璃衬底、形成在所述玻璃衬底上的第一电介质层、形成在所述第一电介质层上的金属层、形成在所述金属层上的吸收层、形成在所述吸收层上的第二电介质层、以及形成在所述第二电介质层上的包含Zr的涂层。

有益效果

与使用TiO_xN_y的常规低发射率玻璃相比，本发明的低发射率玻璃在处理、长期储存和机械耐久性方面是优异的，并且具有的优点在于沉积速率是优异的并且稳定的溅射是可能的。

附图简述

本文所附的以下附图通过实例例示出本发明的优选实施方案，并且用于使本发明的技术构思连同以下给出的本发明的详细描述一起能够被进一步理解，并且因此本发明不应仅用此类附图中的内容来解释。

图1是示出本发明的单个低发射率玻璃的层压结构的视图；

图2的(a)至(c)是示出图1的单个低发射率玻璃中的具体的层压结构实例的视图；

图3是示出本发明的多片低发射率玻璃的层压结构的视图；以及

图4的(a)至(c)是示出图3的多片低发射率玻璃中的具体的层压结构实例的视图。

附图中使用的参考数字如下：