[发明专利]构件、容器、药液收容体、药液的纯化装置、制造槽

权利要求书

1.一种构件，其含有含氟聚合物和含有氟原子的表面活性剂，其中，

在所述构件的至少一部分表面中，

将所述表面的所述表面活性剂的质量基准的含量设为M₁，且以所述表面为基准，将位于所述构件的深度方向10nm处的所述表面活性剂的质量基准的含量设为M₂时，M₁/M₂为0.50～0.90，

所述表面的氟原子的含有原子数相对于碳原子的含有原子数的含有原子数比X₁为0.5～3.0，

所述表面活性剂是在分子内含有选自包括羧基或其盐、羟基及磺酸基或其盐的组中的至少一种来作为亲水性部分、且在分子内含有选自包括直链状或支链状烷基及芳基的组中的至少一种来作为疏水性部分的化合物，

表示所述表面活性剂的辛醇/水分配系数的LogPow为8.0以下。

2.根据权利要求1所述的构件，其中，

所述含氟聚合物的重均分子量为40000～600000。

3.根据权利要求1或2所述的构件，其中，

所述M₂为0.0010～5.0质量％。

4.根据权利要求1或2所述的构件，其中，

所述含氟聚合物为在末端具有全氟烷基的含氟聚合物。

5.根据权利要求1或2所述的构件，其中，

所述表面活性剂为选自由由式(1)表示的化合物及由式(2)表示的化合物组成的组中的至少一种，表示所述表面活性剂的辛醇/水分配系数的LogPow为3.7以下，

式(1) A-CH₂-OH

式(2) A-COO-M⁺

式中，M⁺表示阳离子，式(1)及式(2)中的A表示由式(A1)表示的基团：

式(A1)Rf-[O]_p-[CXY]_m-[O-(CX’Y’)_n]_r-*，

式中，*表示键合位置，Rf表示任选含有1个以上的氧原子的氟化烷基，p为1或0，m及n分别独立地为1以上的整数，r为0或1以上的整数，X、X’、Y及Y’分别独立地为H、F、CF₃或C₂F₅，存在多个的X、X’、Y及Y’可以相同，也可以不同，其中，不存在X、X’、Y及Y’全部为H的情况，或

A表示由式(A2)表示的基团：

式(A2) R-[CFX]_t-*，

式中，*表示键合位置，X为氢原子、卤素原子或任选含有1个以上的氟原子且任选含有1个以上的氧原子的烷基、烯基、环烷基或者芳基，R为氢原子或任选含有除氟原子以外的卤素原子且任选含有1个以上的氧原子的烷基、烯基、环烷基或者芳基，t为1以上的整数。

6.根据权利要求1或2所述的构件，其还含有由式(3)表示的化合物，

相对于构件总质量，所述由式(3)表示的化合物的含量为0.0001质量％～0.05质量％，

式(3) CH₂＝CX^a(CF₂)_nY^a

X^a及Y^a分别独立地表示氢原子或氟原子，n表示1～8的整数。

7.根据权利要求6所述的构件，其中，

将所述表面的所述由式(3)表示的化合物的质量基准的含量设为M₃，且以所述表面为基准，将位于所述构件的深度方向10nm处的所述由式(3)表示的化合物的质量基准的含量设为M₄时，M₃/M₄为0.50～1.50。

8.根据权利要求7所述的构件，其中，

M₁/M₃为0.01～100。