[发明专利]近红外线吸收玻璃

说明书

本发明提供一种能够将光学器件薄型化并且耐候性、耐失透性和光学特性的各特性优异的近红外线吸收玻璃。上述近红外线吸收玻璃的特征在于，以阳离子％计含有10～70％的P⁵⁺、0％以上且低于7％的Na⁺、3％以上且低于31％的R²⁺(R为选自Mg、Ca、Sr和Ba中的至少1种)、0.1～20％的Mg²⁺、2～20％的Sr²⁺、0.1％以上且低于9％的Cu²⁺，且以阴离子％计含有14.5～90％的F^－、10～85.5％的O^2－，厚度为0.25mm以下。

技术领域

本发明涉及能够选择性吸收近红外线的近红外线吸收玻璃。

背景技术

一般而言，在数码相机、智能手机等光学器件内的相机部分中，为了校正CCD、CMOS等固态摄像元件的能见度，使用近红外线吸收玻璃。例如，专利文献1中，公开了含有氟的磷酸系的近红外线吸收玻璃。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2004－137100号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

近年来，强烈期望光学器件的薄型化，需要使近红外线吸收玻璃变薄，但是为了制作薄的近红外线吸收玻璃，要求高的耐失透性。但是，如果要提高耐失透性，则容易发生耐候性、光学特性等降低的问题。

鉴于上述现状，本发明的目的在于提供一种能够使光学器件薄型化并且耐失透性、耐候性和光学特性的各特性优异的近红外线吸收玻璃。

用于解决技术问题的技术方案

本发明的近红外线吸收玻璃的特征在于，以阳离子％计含有10～70％的P⁵⁺、0％以上且低于7％的Na⁺、3％以上且低于31％的R²⁺(R为选自Mg、Ca、Sr和Ba中的至少1种)、0.1～20％的Mg²⁺、2～20％的Sr²⁺、0.1％以上且低于9％的Cu²⁺，且以阴离子％计含有14.5～90％的F^－、10～85.5％的O^2－，厚度为0.25mm以下。

本发明的近红外线吸收玻璃通过将耐失透性提高的R²⁺规定为3％以上，将耐失透性降低的Na⁺规定为低于7％，实现了高的耐失透性。因此，也能够适用于能够高效地制造厚度小的红外线吸收玻璃的下拉法(Down draw)、重拉法(Redraw)等容易伴随失透的成型方法。

本发明的近红外线吸收玻璃优选以阳离子％计还含有0～10％的Zn²⁺。

本发明的近红外线吸收玻璃优选实质上不含Pb成分和As成分。此外，“实质上不含”是指不刻意作为原料含有，客观上是指各成分的含量低于0.1％。

发明的效果

根据本发明，能够提供能够使光学器件薄型化并且耐失透性、耐候性和光学特性的各特性优异的近红外线吸收玻璃。

具体实施方式

本发明的近红外线吸收玻璃以阳离子％计含有10～70％的P⁵⁺、0％以上且低于7％的Na⁺、3％以上且低于31％的R²⁺(R为选自Mg、Ca、Sr和Ba中的至少1种)、0.1～20％的Mg²⁺、2～20％的Sr²⁺、0.1％以上且低于9％的Cu²⁺。以下，说明将玻璃组成如上所述限定的理由。