[发明专利]耐久的低辐射率窗膜构造

权利要求书

1.一种膜，所述膜依次包括以下彼此紧邻的元件：

·基材；

·第一辐射固化的丙烯酸酯层；

·第一包含硅化合物的层，其中所述硅化合物选自氧化硅铝、氧氮化硅铝、氧化硅、氧氮化硅、氮化硅、氮化硅铝以及它们的组合，和

·第一包含氧化锌锡的层，其中所述层具有4nm至8nm的厚度；

·金属层；

·第二包含氧化锌锡的层，其中所述层具有4nm至8nm的厚度；

·第二包含硅化合物的层，其中所述硅化合物选自氧化硅铝、氧氮化硅铝、氧化硅、氧氮化硅、氮化硅、氮化硅铝以及它们的组合，和

·第二辐射固化的丙烯酸酯层；

其中所述膜具有小于0.2的辐射率，

其中所述第一包含硅化合物的层的厚度加上所述第一包含氧化锌锡的层的厚度之和为15nm至30nm，

其中所述第二包含硅化合物的层的厚度加上所述第二包含氧化锌锡的层的厚度之和为9nm至15nm。

2.根据权利要求1所述的膜，其中所述第一包含硅化合物的层的厚度加上所述第一包含氧化锌锡的层的厚度加上所述第二包含硅化合物的层的厚度加上所述第二包含氧化锌锡的层的厚度之和为25nm至40nm。

3.根据权利要求1或2所述的膜，其中所述第一包含硅化合物的层的厚度加上所述第一包含氧化锌锡的层的厚度之和为T1，其中所述第二包含硅化合物的层的厚度加上所述第二包含氧化锌锡的层的厚度之和为T2，并且其中T1-T2大于5nm。

4.根据权利要求1或2所述的膜，其中所述膜在70℃的黑板温度和30％的湿度下，当辐照通过所述基材时，在暴露于在295nm至385nm波段和时间内积分的720MJ/m2总辐照度之后具有小于2的反射ΔL*值。

5.根据权利要求1或2所述的膜，其中所述膜在70℃的黑板温度和30％的湿度下，当辐照通过所述基材时，在暴露于在295nm至385nm波段和时间内积分的720MJ/m2总辐照度之后具有小于2的反射Δa*值。

6.根据权利要求1或2所述的膜，其中所述膜在70℃的黑板温度和30％的湿度下，当辐照通过所述基材时，在暴露于在295nm至385nm波段和时间内积分的720MJ/m2总辐照度之后具有小于5的反射Δb*值。

7.根据权利要求1或2所述的膜，其中所述膜在70℃的黑板温度和30％的湿度下，当辐照通过所述基材时，在暴露于在295nm至385nm波段和时间内积分的720MJ/m2总辐照度之后具有小于5的反射ΔE*值。

8.根据权利要求1或2所述的膜，其中所述膜在70℃的黑板温度和30％的湿度下，当辐照通过所述基材时，在暴露于在295nm至385nm波段和时间内积分的720MJ/m2总辐照度之后具有小于0.02的辐射率增长。

9.根据权利要求1或2所述的膜，其中所述第二辐射固化的丙烯酸酯层包含氟丙烯酸酯聚合物。

10.根据权利要求1或2所述的膜，其中所述膜在透射和反射两者中为由CIELAB色值所定义的基本上中性的颜色，其中“基本上中性的颜色”是指所述膜具有根据ASTM E308测量的a*为-10至+10且b*为-10至+10的CIE L*a*b颜色坐标。

11.根据权利要求1或2所述的膜，所述膜还包括染色的PET层，所述PET层与所述基材相邻、与所述第一辐射固化的丙烯酸酯层相对。

12.根据权利要求1或2所述的膜，其中所述金属层包含银-金合金。

13.根据权利要求1或2所述的膜，其中所述第一辐射固化的丙烯酸酯层具有500nm至1500nm的厚度。